판매용 중고 SEN / SUMITOMO EATON NOVA / AXCELIS Disk for NV GSD-HE #293649983

SEN/SUMITOMO EATON NOVA/AXCELIS Disk for NV GSD-HE (GSD-HE) 는 대용량 재료 처리를 위해 설계된 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 반도체 제작, 마이크로 일렉트로닉 장치 생산, 이온 이식 등 다양한 응용 분야에 대해 원자 화 된 입자를 배치 및 모니터링하는 데 사용됩니다. GSD-HE (Advanced Resistive-Feedback Type) 이온 임플란터는 최적화된 장비 설계로 인해 매우 정밀한 작동을 달성하는 고급 저항 피드백 유형입니다. 이 시스템은 J 자형 이온 소스를 사용하여 크기, 모양 또는 이질성에 관계없이 재료를 빠르고, 정확하고, 효율적으로 이식합니다. GSD-HE는 또한 고급 기판 지원을 사용하여 3 차원 기판 제어와 고해상도 '창 (Window)' 모니터를 제공하여 시간이 지남에 따라 이온 빔의 편향을 관찰 할 수 있습니다. 또한 GSD-HE에는 고성능 광학 탐지기 (optical detector) 가 있어 이식 또는 퇴적되는 물질을 매우 정확하게 측정 및 제어 할 수 있습니다. 검출기는 고해상도 CCD 카메라로 구성되며, 진공 방지 광학 셔터 (vacuum-proof optical shutter) 와 함께 이온 빔 (ion beam) 모양과 명암을 모니터링하는 데 사용됩니다. 이 장치는 또한 고정밀 압력 센서 (High-Precision Pressure Sensor) 를 통합하여 매우 정확한 가스 흐름 제어를 가능하게하여보다 효율적인 작동과 향상된 처리량을 제공합니다. 또한, 기계에는 열 화상 장치 (thermal-imaging device) 가 있으며, 공구의 온도를 정확하게 결정하여 안정성에 기여합니다. GSD-HE는 혁신적인 3D 커터를 특징으로하여 마이크로 마스크 해상도로 3D 올림 패턴과 같은 복잡한 지형 구조를 가능하게합니다. 이것은 자산의 독특한 특징으로, 여러 레벨에서 각기 다른 임플란테이션 재료가 필요한 대용량, 다중 계층 (multilayer) 재료를 효율적으로 처리할 수 있습니다. 작업에서 3D 커터는 X, Y 및 Z 축을 따라 대상 기판을 이동하며 각 이식 레이어의 깊이와 모양을 정확하게 조정할 수 있습니다. 또한, 이 장치는 매우 작은 구성 요소 (예: 마이크로 전자 장치 어셈블리에 사용되는 구성 요소) 를 정확하게 처리 할 수 있습니다. 이는 고정밀 재료 처리에 중요한 이점입니다. GSD-HE (GSD-HE) 는 매우 큰 제어 및 데이터 처리 능력을 갖추고 있어 대용량 재료 프로세스와 복잡한 지형 구조에 적합합니다. 고속 RAM (Random Access Memory) 및 16GB의 플래시 스토리지와 더불어 고속, 정확도 높은 데이터 처리를 위해 20.5TB 이상의 TOPS (Processing Power) 를 제공하는 고가용성 64비트 CPU를 갖추고 있습니다. 이 고효율 모델은 이더넷 포트 (Ethernet port), IEEE1394 (IEE1394) 및 2개의 USB 포트를 통해 인터넷 및 기타 외부 장치에 연결하여 효율적인 데이터 통신, 전송 및 정보 저장을 가능하게 합니다. 전반적으로, NV GSD-HE용 SEN 디스크는 고유한 고급 이온 임플란터 및 모니터이며, 3D 상승 패턴 및 마이크로 전자 장치 어셈블리와 같은 매우 정확하고 복잡한 재료 프로세스를 가능하게합니다. 고정밀도 (high-precision) 처리량 (high-throughput) 장비 설계를 통해 대용량 재료 처리 어플리케이션을 위한 탁월한 선택으로, 사용자가 매우 정확하고 안정적인 결과를 얻을 수 있습니다.