판매용 중고 NISSIN Exceed 2300AH #293758276
URL이 복사되었습니다!
확대하려면 누르십시오
ID: 293758276
빈티지: 2004
Ion implanter
(4) Load ports
(2) Lead plates
(2) Corner sides
(3) D/P with accessories
End station
Beamline frame
Red box
Panel
R/S Rack
Pump rack
Distributed version
Water unit rack
DI Water cooling rack
DI Water unit
Drain pan
Shieldo transformer
Cryo compressor
Acceleration tube
Isolation transformer
P/S Rack
2004 vintage.
NISSIN Exceed 2300AH (Nissin Exceed 2300AH) 는 최고 수준의 정확성과 신뢰성을 제공하도록 설계된 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 반도체 (semiconductor) 에서 의료용 (medical application) 에 이르기까지 다양한 업종에서 고객이 사용할 수 있도록 설계되었습니다. 이 장치는 2 단계 가속기로, 이온 세트 (일반적으로 탄소) 를 사용하여 정밀도가 높은 물체를 이식합니다. 가속기는 높은 정도의 에너지에 도달하여 광범위한 이식 조건을 허용합니다. 2300AH를 초과하면 탄소 이온 (ion of Carbon) 의 경우 최대 10 µm의 광범위한 임플란트 깊이를 생성 할 수 있습니다. 착상 에너지의 총 범위는 이온 유형에 따라 다릅니다. 이 장치에는 또한 이온 임플랜터 모니터 (Ion Implanter Monitor), 고정밀 스캔 장치, 빔 래스터 에뮬레이션 시스템 (Beam Raster Emulation System) 과 같은 이식 정밀도를 향상시키는 다양한 기능이 있습니다. 이러한 기능은 이식 프로세스의 정확성을 높이고, 사용 편의성을 높이도록 설계되었습니다. 이 장치는 또한 임플란트 (implant) 조건에 대한 외부 제어를 특징으로하며, 이식 (implantation) 조건을 원격 위치에서 조정할 수 있습니다. 로컬로 연결된 PC 또는 USB 연결을 통해 이 작업을 수행할 수 있습니다. 또한 NISSIN Exceed 2300AH (NISSIN Exceed 2300AH) 는 단순화 된 사용자 인터페이스를 통해 여러 임플란테이션 매개변수를 선택할 수 있으며 다양한 응용 프로그램에 대한 번인 (burn-in) 모드를 선택할 수 있습니다. 이 장치는 또한 저전압 광전자 보호 (optoelectronic protection) 를 지원하여 작동 중 장치의 안전을 보장합니다. 전반적으로 Exceed 2300AH는 고정밀 임플란테이션을 위해 설계되었으며 정확성, 신뢰성 및 안전성을 제공합니다. 이 장치는 아마추어 (Amateur) 사용자와 전문 사용자 (Professional Users) 의 요구를 모두 충족할 수 있도록 설계되었으며, 다양한 애플리케이션 요구 사항에 대해 고정밀 임플란테이션을 제공할 수 있습니다.
아직 리뷰가 없습니다