판매용 중고 NISSIN Exceed 2000 #9223171
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ID: 9223171
웨이퍼 크기: 3"-4"
빈티지: 1997
Medium current ion implanter, 3"-4"
PN: E95-3005
Energy range: 10-200 kV
(4) Cassette stages
(2) Loadlocks: Left and right
(2) Orienters: Auto-flat / Notch find
Ion source chamber
Beamline chamber
End station chamber
Pumps:
Dry pumps:
Make / Model / Class
ALCATEL / Drytel 34C / Load / Lock (DP-4), 450 L/sec
ALCATEL / Drytel 31 / Target chamber (DP-3), 450 L/sec
KASHIYAMA / SD 90V III / F.E.M (DP-2), 1500 L/sec
KASHIYAMA / SD 90V III / S.A.M / lon source (DP-1), 1500 L/sec
Turbo pumps:
Make / Model / Class
SHIMADZU / TMP51G / Load / lock (TP 4 and 5), 55 L/sec
SHIMADZU / TMP1002 / F.E.M (TP-3), 800 L/sec
SHIMADZU / TMP1002 / S.A.M (TP-1 and 2), 800 L/sec
Cryo pumps:
Make / Model / Class
CRYOTEC-12L / V208SC612GN / Target chamber (CP-2), 4000 L/sec
CRYOTEC-12L / V208SC612GN / Collimator (CP-1), 4000 L/sec
DAIKIN U110CW Compressor
Process gas:
SiF4 (0.35L): 200 keV, Si+200 µA - 20 µA, SI++ 20 µA - 5 µA, 5E12
Ar (0.35L): 200 keV, 1000 µA, 5E12
High voltage range:
Extraction power supply: 0 keV - 70 keV
Acceleration power supply: 0 keV - 180 keV
Power supplies (Assembly):
Arc
Filament
SAM
ACC
DEC
Focus
TRIM-Q
FEM
Column
DC / AMP
Faraday suppression
ISO TX 160 kV
HV Stack 160 kV
Controllers (Assembly): BSM, FEM, P/C, SAM, W/C, WFC, V/C, I/C, O/F, TQ, T/C, I/G, T/P
Utilities:
Air: 100-150 PSI
N2: 40-150 PSI
Cooling water: 60-150 PSI
Temperature: 4°C - 21°C
Operating system: Windows XP
Power supply: 208 VAC, 3-Phase, 65 kVA
1997 vintage.
NISSIN Exceed 2000은 고성능 반도체 제작을 위해 설계된 고급 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 이 장비는 최첨단 전자 제품, 센서 및 제어 시스템 (Control System) 을 사용하여 이온을 다양한 재료로 정확하게 이식하여 일관성 있고, 균일하며, 반복 가능한 제품 품질을 제공합니다. 이 시스템은 다양한 이식 매개변수 (implantation parameter) 를 제공하며, 특정 설계 및 프로세스 요구 사항에 맞게 쉽게 조정할 수 있습니다. 장치의 주요 기능은 이온 임플란테이션을 수행하는 것입니다. 이온 종 (ion species), 이식 깊이 (implantation depth), 이식 각도 (implantation angle), 빔 에너지 (beam energy) 및 기타 여러 매개변수와 같은 다양한 이식 매개변수를 사용하여 원하는 응용 프로그램에 맞게 임플란트를 사용자 정의할 수 있습니다. 또한 여러 사용자 정의 가능한 프로그램을 저장하여 시간을 절약하고 설정 시간을 최소화할 수 있습니다. 모니터는 이식하는 동안 프로세스 상태 (process status) 와 현재 매개변수 (current parameters) 를 모니터링하는 공구의 통합 컴포넌트입니다. 이 모니터는 전체 프로세스에 걸쳐 올바른 implantation 매개 변수가 유지되도록 하기 위한 중요한 구성 요소입니다. 모니터는 또한 용량 및 공차 오류에 대한 실시간 피드백을 제공하여 제어를 개선합니다. 이 자산은 신뢰성이 높고 반복 가능하며, 대용량 (high-volume) 및 광범위한 프로세스 요구사항의 생산에 이상적입니다. 견고하고 자동화된 설계를 통해 가장 까다로운 어플리케이션조차 일관된 품질 (quality) 과 반복 (repeatability) 기능을 통해 충족할 수 있습니다. Exceed 2000 은 여러 개의 사용자 정의 가능한 매개변수를 갖춘 안정적이고 반복 가능한 자동 implantation 모델을 제공합니다. 반도체 제작에 있어 가장 까다로운 요구사항을 충족시키도록 설계되었으며, 산업생산에 이상적인 선택입니다 (영문). 장비의 내장형 모니터 (Integrated Monitor) 는 이식 매개변수가 제품 품질 향상을 위해 프로세스 전반에 걸쳐 일관되게 유지되도록 합니다.
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