판매용 중고 NISSIN Exceed 2000 #9221084

NISSIN Exceed 2000은 반도체 장치 제조를위한 신뢰할 수 있고 다재다능한 이온 이식 이식 솔루션을 제공하는 데 사용되는 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 특히, 이온은 전기 특성을 수정하기 위해 실리콘 (silicon) 과 같은 물질에 가속되고 이식된다. Exceed 2000은 4 가지 주요 구성 요소 (이온 소스, 빔 라인, 엔드 스테이션 및 모니터) 로 구성됩니다. 이온 소스는 2 개의 개별 챔버, 금속 이온 소스 및 가스 이온 소스로 구성됩니다. 이온 소스 (ion source) 는 빔 라인 (beam line) 에 연결되어 있으며, 빔을 구부리고 초점을 맞추기위한 자석 세트로 구성됩니다. 엔드 스테이션은 이온을 기판 표면에 전달하는 데 사용됩니다. 모니터는 작동 중에 빔을 모니터링하고 제어하는 데 사용됩니다. NISSIN Exceed 2000은 단일 레벨 임플란트에서 고전류 혼합 레벨 임플란트에 이르기까지 광범위한 이식 프로세스를 수행하도록 프로그래밍 될 수 있습니다. 그것은 높은 정도의 빔 컨트롤을 가지고 있으며 1 keV ~ 25 keV 범위의 빔 에너지와 1 mA ~ 120 mA 범위의 빔 전류로 작동 할 수 있습니다. 또한 Exceed 2000에는 빔 브레이크 (beam break) 및 자동 종료 (auto-shutdown) 와 같은 다양한 안전 및 보안 기능이 있습니다. NISSIN Exceed 2000은 이온 이식을위한 강력하고 신뢰할 수있는 도구이며, 반도체 장치 제작, 의료 동위 원소 생산 등 다양한 응용 분야에 광범위하게 사용되었습니다. 고급 (Advanced), 신뢰성 있는 기술을 필요로 하는 고객에게 탁월한 선택입니다.