판매용 중고 NISSIN Exceed 2000 #9178081

ID: 9178081
웨이퍼 크기: 8"
Medium current ion implanter, 8".
NISSIN Exceed 2000은 고성능, 자동화된 이온 임플랜터이며 고정밀 이온 임플란테이션을 위한 모니터입니다. 생산성 (productivity) 과 정확성 (accuracy) 측면에서 탁월한 성능을 제공하여 반도체 장치 제작 및 연구에 이상적인 선택입니다. Exceed 2000은 Gallium, Fluorine, Arsenic, Phosphorus 및 Boron을 포함한 다양한 이온을 사용하는 다중 축, 다중 소스 임플란터입니다. 이 시스템은 대형 500mm x 250mm 대상 챔버를 가지고 있으므로 대규모 이온 이식에 적합합니다. 전원 공급 장치는 모두 독립적으로 조절되어, 이온 용량을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 광섬유 (beam optics) 와 각도 (angular) 정렬은 고해상도 임플란테이션을 위해 설정 될 수 있으며, 이를 통해 이온 에너지, 직경 및 각도를 매우 정확하게 제어 할 수 있습니다. NISSIN Exceed 2000에는 이식 프로세스를 지속적으로 모니터링하는 데 사용할 수있는 통합 모니터링 시스템이 있습니다. 광학 정렬 (Optical Alignment) 및 전자 모니터링 시스템 (Electronic Monitoring System) 을 선택하여 이식 중 용량 무결성의 변화를 감지 할 수 있습니다. 이를 통해 프로세스 전반에 걸쳐 이온 용량이 일관되게 유지됩니다. 2000년 (Exceed 2000) 에는 다양한 소프트웨어 및 자동화 기능이 장착되어 있어 이식 프로세스를 손쉽게 제어, 관리할 수 있습니다. 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 시스템을 쉽게 탐색하고 제어할 수 있습니다. 또한 미리 정의된 임플란테이션 레시피와 특정 작업에 대한 사용자 정의 레시피를 만드는 옵션 (옵션) 을 제공합니다. 이 소프트웨어에는 시각화 (Visualization) 및 보고 (Reporting) 모듈이 포함되어 있으므로 이식 결과를 빠르게 보고 분석할 수 있습니다. NISSIN Exceed 2000 (NISSIN Exceed 2000) 은 신뢰할 수 있는 사용자 친화적 이온 임플랜터 및 모니터로, 다양한 애플리케이션에 적합합니다. 높은 정확도, 정밀도, 자동화를 갖춘 Exceed 2000은 고품질 이온 임플란테이션을 위한 효율적이고 효과적인 솔루션을 제공합니다.
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