판매용 중고 KLA / TENCOR / THERMA-WAVE ThermaProbe 420 #293619012

KLA/TENCOR/THERMA-WAVE ThermaProbe 420은 최첨단 이온 임플란터이며 반도체 웨이퍼에서 이온의 매우 정확한 임플란트를 촉진하고 제어하도록 설계된 모니터입니다. KLA ThermaProbe 420은 50 eV ~ 450 keV의 광범위한 이온 에너지 범위와 이식 및 모니터 프로세스를 최적으로 제어하기 위해 광범위한 전류 범위를 갖추고 있습니다. 그 고성능 과 정밀 함 은 여러 가지 물질 을 "실리콘 '과 이산화규소 에서" 폴리실리콘' 및 화합물 "반도체 '재료 에 이르기 까지 여러 가지 물질 로 이식 할 수 있게 해 준다. 통합 빔 모니터링 시스템 (Integrated Beam Monitoring System) 은 이온 빔 (Ion Beam) 을 매우 빠르고 실시간으로 구성하여 임플란테이션 깊이를 더 잘 제어할 수 있으며 정확성과 반복성에 매우 높은 정밀도를 제공합니다. TENCOR THERMA-PROBE 420은 또한 넓은 임플란트 투 임플란트 용량 분산 범위를 특징으로하며, 개별 용량으로 최대 제어 권한을 제공합니다. 초감수성 이온 빔 (ion beam) 검출기는 이온 빔의 가장 작은 변화까지도 감지하고 사용자에게 임의의 불일치를 경고합니다. 사용자는 빔 위치 (beam position) 및 빔 (beam) 모양을 조정하여 모든 기판에 균일 한 임플란테이션을 확인할 수도 있습니다. 또한 고급 데이터 획득, 분석, 보고 (Reporting) 기능을 통해 사용자는 이식 프로세스의 진행 상황을 추적하는 데 필요한 모든 정보를 가질 수 있습니다. TENCOR ThermaProbe 420에는 고조파 주파수 (harmonic frequencies) 및 정전기 에너지 (electrostatic energy) 와 같은 다양한 매개 변수가있는 다양한 빔 소스와 진단 및 데이터 획득 기기가 장착되어 있습니다. 즉, 구축 프로세스의 진행 상황을 제어하고 모니터링할 수 있는 유연성 (Flexibility) 을 제공합니다. 또한 빔 매개변수 (beam parameter) 를 조정하여 얕은 임플란트와 깊은 임플란트 모두에 대해 최적의 정밀도와 정확도를 달성하기 위해 다양한 기능을 제공합니다. 요약하자면, THERMA-WAVE ThermaProbe 420은 강력한, 고정밀 이온 임플란터 및 모니터로, 모든 이식 프로세스에 대해 높은 수준의 유연성과 정확성을 제공합니다. 첨단 데이터 획득, 분석 및 보고 도구, 통합 빔 모니터링 시스템 (Integrated Beam Monitoring System), 다양한 빔 소스 (Beam Source) 및 진단 장치 (Diagnostic Instruments) 를 통해 모든 고정밀 임플란테이션 프로젝트를 완벽하게 선택할 수 있습니다.