판매용 중고 JENOPTIK HEX 03 #9184329

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ID: 9184329
빈티지: 2002
Nano imprinter Embossing force: Up to 200 kN Embossing speed: 1µm/min~8 mm/s Sample size, 6" Shape: Rectangle, Rondure Sample thickness: 10 mm (3) Water chillers Mechanical vacuum pump Operation manual 2002 vintage.
JENOPTIK HEX 03 (JENOPTIK HEX 03) 은 최첨단 이온 임플란터 및 모니터로, 다양한 재료로 정확하고 정확한 이온 임플란테이션을 제공합니다. 이 도구는 반도체 업계에서 소비자용· 산업용 고품질 기기를 생산하는 데 사용된다. HEX 03은 고급, 고출력, 전자 제어 이온 소스를 사용하여 사용자에게 재료에 이식되는 이온의 에너지와 플럭스를 매우 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이 장비는 또한 낮은 진공 환경 (low-vacuum environment) 을 특징으로하여 민감한 재료를 구현하는 데 이상적입니다. 최고 품질의 결과를 얻기 위해 JENOPTIK HEX 03은 여러 정교한 모니터링 및 진단 시스템을 사용합니다. 이러한 시스템을 사용하면 임플란테이션 프로세스를 추적할 수 있으며, 사용자의 사양 (specification) 내에서 모든 매개변수가 충족되는지 확인합니다. 여기에는 실시간으로 이온 에너지, 빔 강도 및 빔 전류 모니터링이 포함됩니다. 또한 통합 진단 패키지 (Integrated Diagnostics Package) 도 포함되어 있습니다. 이 패키지는 각 임플란테이션 작업에 대한 모든 관련 데이터를 표시하는 한편, 사용자에게 해당 파일에 영향을 미치는 변수를 완벽하게 제어할 수 있습니다. 작동 측면에서, HEX 03은 높은 수준의 사용자 제어를 제공하도록 설계되었습니다. 이 장치에는 사용이 간편한 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 가 있어 사용자가 이식 작업에 적합한 매개변수를 선택하고 진행 상황을 모니터링할 수 있습니다. 또한, 다른 재료 기판 및 이식 목표를 수용하도록 기계를 구성할 수 있으며, 따라서 사용자는 특정 제품 요구사항의 요구를 효과적으로 충족시킬 수 있습니다 (영문). 마지막으로, 이 툴을 다른 인사이트 (in-situ) 테스트 솔루션과 통합하여 전체 제조 프로세스를 포괄적으로 지원합니다. 전반적으로 JENOPTIK HEX 03 (JENOPTIK HEX 03) 은 강력하고 다양한 임플란테이션 툴로, 다양한 응용 프로그램에서 정확한 결과를 얻을 수 있습니다. 자산의 고급 모니터링 (Advanced Monitoring) 및 진단 (Diagnostics) 기능을 통해 안정적이고 일관성 있고 정확한 임플랜테이션 프로세스를 찾는 제조업체에 이상적인 선택이 가능합니다. 또한, 사용자 친화적 인 인터페이스는이 모델을 숙련된 사용자와 초보 사용자 모두에게 액세스 할 수 있습니다. 간단히 말해서, HEX 03은 강력한 성능과 정밀한 결과를 제공하는 고가용성 이온 임플랜터 (ion implanter) 및 모니터입니다.
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