판매용 중고 AXCELIS 17122960 #9142474

AXCELIS 17122960 Ion Implanter & Monitor는 고급 집적 회로의 제작을 위해 설계된 고성능 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 고급 빔 특성 장비, 빠른 빔 스캔 및 빔 안정화 시스템, 통합 머신 제어 장치 (Integrated Machine Control Unit) 가 특징입니다. 이 기계는 고급, 고해상도 반도체 웨이퍼 제작에 적합합니다. 17122960 Ion Implanter & Monitor는 이온을 게르마늄, 실리콘, 갈륨 비소 및 인화 인듐을 포함한 광범위한 물질로 이온을 이식 할 수 있습니다. 이 도구에는 빔 중심, 용량 분포 및 빔 방향을 지속적으로 모니터링하는 17 채널 빔 (beam) 특성 자산이 장착되어 있습니다. 이를 통해 모델은 최소 용량 누출 및 스프레드로 고정밀 임플란트를 제공 할 수 있습니다. 이 장비는 고속 빔 스캐닝 (High Speed Beam Scanning) 및 빔 안정화 시스템 (Beam Stabilization System) 을 통해 빠르고 정확하며 안전한 빔 스캐닝을 수행할 수 있습니다. 이 장치에는 통합 머신 컨트롤 머신 (integrated machine control machine) 도 있습니다. 이 머신은 사용자가 빔 전원, 스캐닝 속도 및 빔 전류를 제어할 수 있는 기능을 제공합니다. AXCELIS 17122960 Ion Implanter & Monitor (Ion Implanter & Monitor) 에는 컴퓨터 인터페이스도 포함되어 있어 사용자가 원격으로 이 툴을 액세스하고 자산의 성능을 모니터링할 수 있습니다. 또한 사용자는 모델 매개변수 (예: 빔 전류, 전원, 스캐닝 속도) 를 제어할 수 있습니다. 또한 데이터 수집 시스템 (Data Collection System) 을 통해 데이터를 실시간으로 수집하고 분석할 수 있습니다. 17122960 Ion Implanter & Monitor는 하이엔드, 고해상도 집적 회로의 생산에 적합한 선택입니다. 이 장치는 사용자에게 높은 수준의 제어, 정밀, 안전성을 제공하므로 반도체 웨이퍼 (wafer) 제작에 이상적입니다. 이 기계의 빠른 스캐닝 및 빔 안정화 (fast scanning and beam stabilization) 툴은 또한 신속한 임플랜테이션과 모니터링이 필요한 어플리케이션에 매력적인 선택입니다.