판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS xR80 #9262468

AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 이온 임플란터 & 모니터는 이온 이온 이식 프로세스의 생산성 및 정확성을 향상시키기 위해 설계된 최첨단 임플란터 기술입니다. AMAT xR80은 고출력, 고정밀도 임플란터로 프로세스 반복성을 높이고 다양한 재료의 이식 성능을 향상시킵니다. 이온 이식 (ion implantation) 에서, 가속 이온 빔은 빔에서 기판으로 원자를 전달하여 기판 재료의 특성을 수정하는 데 사용된다. APPLIED MATERIALS XR 80은 정전기 방법을 사용하여 이온 빔을 가속화합니다. 첨단 빔 전류 모니터 (Advanced Beam Current Monitor) 를 장착하여 전류를 제어하여 이식된 재료의 정확한 정확성과 반복성을 보장합니다. 이 정확성은 임플란터의 고정밀, 진공 절연 이온 소스, 이온 필터 및 다중 빔라인 디자인을 사용하여 달성됩니다. APPLIED MATERIALS xR80에는 다양한 프로세스 모니터링 및 제어 기능도 포함되어 있습니다. EOL (End-of-Run) 센서, 피드 포워드 스캔 수정, 24 시간 프로세스 모니터링 시스템 및 기타 다양한 품질 제어 기능이 장착되어 있습니다. 이러한 모든 기능을 통해 프로세스 제어 및 반복성 (process control and repeatability) 이 향상되고 동일한 기판의 여러 임플란트 간의 반복성이 향상됩니다. AMAT XR 80은 또한 효율적인 빔 제어를 위해 독점적 인 고속 디지털 통신 인터페이스를 사용합니다. 이 고속 디지털 통신 인터페이스를 사용하면 즉석 빔 제어 (on-the-fly beam control) 및 최적화 (optimization) 기능을 통해 임플란트 프로세스의 생산성과 효율성을 향상시킬 수 있습니다. XR80은 또한 이식 된 재료의 높은 수율과 균일성을 제공하는 업계 최고의 진공 절연 이온 소스를 자랑합니다. 이 고급 이온 소스는 또한 빔 안정성 (beam stability) 과 위치 정확도 (position accuracy) 를 향상시켜 더 나은 깊이 균일성으로 더 큰 접합 깊이를 허용합니다. XR 80은 또한 확장 된 전압 범위 (0-80 keV) 를 가능하게하여 다양한 고 에너지 임플란트를 허용합니다. 광범위한 임플란트 에너지 외에도 AMAT/APPLIED MATERIALS XR 80은 타의 추종을 불허하는 위치 정확성과 반복 성을 제공하며, 이를 통해 높은 종횡비 마스크에서 정확한 임플란트를 사용할 수 있습니다. 전반적으로 AMAT/APPLIED MATERIALS xR80은 최고의 이온 임플란터 및 모니터로 뛰어난 이온 임플란테이션 프로세스를 제공합니다. 고급 빔 제어 시스템 (Beam Control System) 과 고정밀 컴포넌트 (High-Precision Component) 는 향상된 제품의 생산량과 공정의 균일성을 제공하므로 정밀 임플란트 프로세스에 이상적입니다.