판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS xR80 Leap II #9243467

AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 Leap II는 반도체 산업의 최상위 이온 임플란터이자 모니터입니다. 이것은 고급 디스플레이, 집적 회로 (integrated circuit) 및 메모리 장치 생산을 위해 다양한 유형의 이온을 기판으로 이식 할 수있는 다재다능한 중량 장치입니다. 이 제품은 일관성 있는 제품 품질과 성능을 위해 이온을 기판에 빠르고, 안정적으로 임플란트하도록 설계되었습니다. AMAT xR80 Leap II는 고압 이온 소스, 임플란터 챔버, 빔 라인, 대량 분리 빔 라인 및 웨이퍼 핸들러로 구성된 X-ray 이온 임플랜터입니다. 이온 소스에는 텅스텐 필라멘트 (tungsten filament) 가 포함되어 있으며, 이것은 기판에 이식 될 이온을 제공한다. 그런 다음, 임플란터 챔버 (implanter chamber) 는 이온을 기판을 관통하는 데 필요한 속도로 가속화합니다. 빔 라인 (beam line) 은 지정된 경로를 따라 꾸준하고 균일한 이온 빔을 생성하며, 질량 분리 빔 라인 (beam line) 은 질량에 따라 이온을 정렬하여 올바른 유형의 이온을 기판에 이식하도록 합니다. 마지막으로, 웨이퍼 핸들러는 기판을 이식하는 데 필요한 정확한 위치에 배치합니다. APPLIED MATERIALS xR80 Leap II's ion implanter는 CMC-7000XR Software 제품군에 의해 제어되며, 이 제품군은 시스템의 모든 주요 기능을 완벽하게 제어하여 정확한 이식 매개변수를 지원합니다. 또한 통합 최적화 창 (Optimization Window) 이 포함되어 있어 엔지니어가 다양한 이식 시나리오를 수정 및 비교하여 각 디바이스의 성능을 극대화할 수 있습니다. XR80 Leap II는 불순물 게터링, 마스킹, 표면 활성화 및 수동화와 같은 작업을 수행하는 데 적합합니다. 이온 임플란터 (ion implanter) 와 모니터 (monitor) 는 정밀한 프로세스 제어를 제공하여 높은 제품 생산량과 일관된 제품 품질을 보장합니다. 또한 AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 Leap II는 고급 진단 기능을 위해 고급 빔 에너지 제어 시스템과 정교한 Failure Analysis 도구를 지원합니다. AMAT xR80 Leap II는 반도체 산업의 점점 더 엄격한 요구를 충족시키기 위해 설계된, 고급적이고, 무거운 듀티 이온 임플란터 및 모니터입니다. 다재다능한 설계 및 통합 소프트웨어 제품군을 통해 엔지니어는 다양한 유형의 이온을 기판으로 빠르고, 안정적으로 임플란트 (implanting) 하여 안정적이고 일관된 장치 성능을 제공합니다.