판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum Leap #9013235

AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap은 대용량 제조 및 테스트 환경에 사용하도록 설계된 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 이 장치는 고정밀도 (high precision) 와 안정성 (안정성) 을 모두 제공하는 반면, 고급 기능은 나노미터 스케일의 재료를 제어하는 데 이상적입니다. AMAT Quantum Leap (AMAT Quantum Leap) 은 컴퓨터 제어 장비를 사용하며 여러 개의 빔을 동시에 독립적으로 정확하게 관리할 수 있습니다. 이 시스템은 빔 스캐닝 (beam scanning) 기술을 사용하여 넓은 영역을 덮을 수있는 다양한 각도 동작을 가능하게하여 고정밀 이온 이식 (high-precision ion implantation) 을 달성합니다. 또한, 이 장치에는 이식 중인 재료의 불순물 (imurities) 과 불규칙성 (imrularities) 을 감지하고 측정할 수있는 정교한 모니터 유닛이 포함되어 있으며, 필요한 경우 교정 조치가 가능합니다. 또한 APPLIED MATERIALS Quantum Leap (APPLIED Quantum Leap) 에는 임플란테이션 주기 동안 EPIF 장치의 상태를 추적하고 불규칙성이 감지되면 보호 피드백 루프를 만들 수 있는 현장 내 (in-situ) 수명 모니터링 프로세스가 적용됩니다. 양자 도약 (Quantum Leap) 은 실리콘, 유리, 페라이트, 질화 갈륨 및 다양한 희토류 요소를 포함한 다양한 재료 유형을 처리 할 수 있습니다. 이 기기 의 제어성 과 정확성 은, 세밀 한 재료 처리 에 특히 적합 하다. 예 를 들면, "하드 '물질 에 복잡 한 공동 을 만드는 것 과 같다. AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap에는 다중 단계, 고성능 cryo-ampoule 머신도 있으며, 이는 필요한 임플란테이션/프로세스 매개변수에 이온 빔을 준비합니다. 이 장치 의 진공 도구 와 전자 "빔 '발전기 는 함께 발전기 의 작동 에 최적 의 조건 을 제공 한다. AMAT Quantum Leap에는 다양한 고급 안전 및 보안 기능도 있습니다. 이 장치는 전자기 간섭 (electromagnetic interference) 과 같은 환경 요인으로 인해 작동 중단을 방지하도록 설계되었습니다. 또한, 장치에는 프로그래밍 가능한 로직 컨트롤러 (logic controller) 가 장착되어 있어 장치의 시스템이 안전 제한 내에서 작동하도록 할 수 있습니다. 전반적으로 APPLIED MATERIALS Quantum Leap은 신뢰할 수 있고, 정확하고 강력한 이온 임플란터이며, 단기 및 장기 결과를 모두 제공 할 수 있습니다. 이 제품은 대용량 제조 및 테스트 환경에 이상적인 선택으로, 사용자에게 나노미터 (nanometer) 규모의 재료를 정확하게 제어 할 수있는 기능을 제공합니다.