판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum Leap III #9086473

AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap III (QIII) 는 생산 중 매우 정확하고 정확한 용량 제어를 제공하도록 설계된 이온 임플랜터 및 모니터 장비입니다. 이 시스템의 PWM (Pulse-Width Modulated) 기술은 저중형 에너지 정권에서 광범위한 이온 종을 구동하여 수많은 임플란트 응용 프로그램을 제공합니다. QIII 는 2 개의 Accelerator 소스 중 하나를 활용하여 각 프로세스의 Hysteresis 를 조정하고 유지할 수 있습니다. QIII는 항상 빔 위치를 계산하기위한 통합 고감도 BPM (Beam Position Monitor) 을 갖추고 있으며, 직선 오류의 병렬 보정과 정확한 목표 정렬을 허용합니다. 통합 된 BSS (Beam Shaping Unit) 는 런과 배치 간의 일관성을 위해 균질 한 빔 프로파일을 제공합니다. 또한, QIII는 빠른 아크 테이블 (fast arc table) 로 업그레이드 할 수 있습니다 (비표준 임플란트의 경우). 이 기계의 오픈 플랫폼 (open platform) 은 표준 (standard) 과 비표준 (non-standard) 임플란트 레시피를 모두 처리할 수 있으며 각 구성은 공구에 레이아웃으로 저장됩니다. 또한, 사용자 지정 가능한 하드웨어 설정을 사용하면 다운타임을 최소화하면서 다른 임플란트 레이아웃을 수용할 수 있는 정확한 실행별 (run-by-run) 조정이 가능합니다. 또한 QIII 는 빠른 프로세스 (fast process) 와 느린 프로세스 (slow process) 모두에서 실행할 수 있으므로 용량 (dose rate) 을 조정하여 처리량을 높일 수 있습니다. 임플란트 중 정확성과 안전을 보장하기 위해 QIII (QIII) 에는 일련의 경보 및 셧다운이 있습니다. 이 (가) 오작동할 경우, 에셋은 발생 가능한 손상을 줄이기 위해 신속하게 종료되도록 설계되었습니다. 마지막으로, 모델의 광범위한 서비스 메뉴 (Service Menu) 는 문제를 신속하게 진단하고 복구하는 데 도움이 되는 자동 진단을 제공합니다. AMAT Quantum Leap III (QIII) 는 안정적이고 정밀한 이온 임플란터 및 모니터 장비로, 저중소 에너지 임플란트 처리에 적합합니다. 다양한 커스터마이징 (customization) 옵션을 통해 다양한 임플란트 (implant) 어플리케이션에 이상적이며, 통합 경보 및 종료가 필요한 안전성과 정확성을 제공합니다.