판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum Leap III #9066908

AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap III (AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap III) 은 고급 듀얼 빔, 고전류 이온 임플란터 및 모니터로, 다양한 기판 재료에 대한 정확하고 안정적인 이온 임플란테이션을 제공 할 수 있습니다. AMAT Quantum Leap III는 코어에서 고급 빔 및 소스 트리트먼트와 결합 된 빔라인 (beamline) 및 이온 소스 (ion-source) 기술을 사용하여 이온을 기판 물질로 매우 정확하고 정확하게 임플랜테이션합니다. 이 중심의 이온 에너지 및 이식 전류는 동시에 광범위한 이식 (implantation) 을 가능하게한다. APPLIED MATERIALS Quantum Leap III (APPLIED Quantum Leap III) 이 사용하는 다양한 빔라인 구성 요소는 이온 이식 프로세스의 속도와 정확성을 최적화하기 위해 설계되었습니다. 이온 소스, 빔 제어 장치, 빔 디플렉션 유닛, 최적화 된 광학 장치 (optics) 를 포함한 빔 라인은 모두 금속, 반도체, 폴리머 등 다양한 기판 물질에 대한 최고의 이온 임플란테이션을 제공하도록 최적화되었습니다. 이 강력한 빔 및 소스 구성 요소 조합을 통해 Quantum Leap III는 원하는 이식 프로세스 결과에 따라 수십 개의 나노 암 (nanoamps) 에서 수십 킬로 암 (kiloamps) 에 이르는 이식 전류를 제공 할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap III에는 빔 및 소스 컴포넌트 외에도 모니터가 장착되어 있어 이온 이식 프로세스에 대한 실시간 데이터를 제공합니다. 챔버 제어 장치 (chamber control unit) 와 고급 진단 (advanced diagnostics) 으로 구성된 모니터는 이식 전류 (implantation current), 에너지 (energy), 이식 깊이 (depth of implantation) 등 다양한 매개변수를 표시합니다. 이를 통해 사용자는 실시간으로 이식 (implantation) 동작을 볼 수 있으며, 필요에 따라 즉시 파악하거나 변경할 수 있습니다. 이 기능은 이미 임플란테이션 정확도와 성능을 향상시키는 데 매우 유용한 것으로 입증되었습니다. AMAT Quantum Leap III Ion Implanter and Monitor (AMAT Quantum Leap III Ion Implanter and Monitor) 는 매우 효율적이고 효과적인 시스템으로, 다양한 기판 재료에 품질과 안정적인 임플란테이션 프로세스를 제공합니다. 고급 빔라인 컴포넌트 (beamline components), 모니터 (monitor) 및 진단 (diagnostics) 조합은 사용자가 원하는 대로 프로세스를 조정하거나 최적화할 수 있도록 정확하고 강력한 임플란테이션과 실시간 데이터를 제공합니다.