판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum Leap III #9009213

AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap III는 정확하고 정확한 이온 임플랜테이션 기능을 제공하는 고급 이온 임플랜터 및 모니터 장비입니다. 이 시스템은 박막 증착 (Thin Film Deposition) 및 표면 수정 (Surface Modification) 을 포함한 다양한 응용 프로그램에 사용하도록 설계되었습니다. AMAT Quantum Leap III는 사용자가 높은 정확도로 이식 매개변수를 제어 할 수있는 광범위한 기능을 제공합니다. APPLIED MATERIALS Quantum Leap III는 최대 200 keV의 이식 속도에 고에너지, 고전압 이온 빔을 생산하는 이중 이온 빔 소스를 사용합니다. 이렇게 하면 "이온 '이 원하는 속도 로 정확 하고 균일 하게 이식 된다. 이 장치의 빔 강도 (beam intensity) 는 사용자에게 친숙한 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 를 통해 손쉽게 조정 및 모니터링할 수 있으므로 이식 프로세스를 정확하게 제어할 수 있습니다. 또한 Quantum Leap III에는 고급 내부 모니터 (Advanced Internal Monitor) 가 있어 이식도 일관되게 수행됩니다. 이 모니터는 빔 전류 (beam current) 를 모니터하고 빔 강도를 분석하여 균일한 빔 프로파일이 유지되도록 합니다. 외부 모니터 모듈 (옵션) 을 시스템에 추가하여 추가 제어 및 모니터링 정확도를 높일 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap III (AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap III) 도 여러 재료를 한 번에 이식할 수 있으므로 단일 도구를 사용하여 복잡한 이식 결과를 얻을 수 있습니다. 이 자산에는 임플란테이션 프로세스 (implantation process) 동안 지속적으로 모니터링하고 프로세스 정확성을 보장하기 위해 매우 정확한 도량형 (metrology) 도구가 포함되어 있습니다. 이 모델의 고급 도량형 도구에는 다양한 고급 이미징 (advanced imaging) 및 데이터 분석 소프트웨어 (data analysis software) 가 포함되어 있어 정확한 이미징 및 데이터 분석을 제공합니다. AMAT Quantum Leap III (Quantum Leap III) 에는 전체 이식 프로세스를 관리하고 다양한 제어, 보고, 관리 기능을 제공하는 통합 장비 컨트롤러도 포함되어 있습니다. APPLIED MATERIALS Quantum Leap III에는 AMAT 글로벌 지원 네트워크에 대한 액세스도 포함되어 있으며, 이 네트워크는 사용자에게 신속한 문제 해결 지원 및 소프트웨어 업데이트를 제공합니다. Quantum Leap III (Quantum Leap III) 는 강력하고 신뢰할 수 있는 이온 임플란터 및 모니터 시스템으로, 사용자가 정확하고 정확한 결과를 얻을 수 있도록 해 줍니다. 이 장치의 강력한 빔 소스 (beam source) 와 고급 도량형 도구 (advanced metrology tools) 는 최소한의 노력으로 고정밀 이식 결과를 제공합니다. 이 시스템에는 광범위한 제어, 보고 및 관리 기능도 포함되어 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap III는 박막 증착에서 표면 수정에 이르기까지 다양한 응용 분야에 이상적입니다.