판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum Leap II #9051278

AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap II는 모든 유형의 이온 이식 공정에 포괄적이고 유능한 솔루션을 제공하는 고급 이온 임플랜터 및 모니터입니다. AMAT Quantum Leap II는 이온 이식, 이온 빔 측정, 이식 프로세스 제어 등 다양한 기능을 갖추고 있습니다. 이 다용도 장비 (versatile equipment) 를 통해 이식 처리 속도를 높일 수 있으며, 이식 프로세스를 정확하고 안정적으로 제어할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Quantum Leap II는 빠르고 간단한 방법으로 이온 이식 프로세스를 설정, 모니터링 및 제어합니다. 이 시스템은 자동 조정 및 모니터링을 통해 전체 장치를 닫힌 루프 (closed loop) 로 유지하면서 효율적인 워크플로우 (workflow) 를 제공하도록 설계되었습니다. 이 기계는 정확한 이식 결과와 이온 불순물 (ion impurity) 과 이식 에너지 (implantation energy) 의 조합을 조정하여 처리량 및 품질 제어를 극대화할 수 있도록 설계되었습니다. Quantum Leap II는 조정 가능한 0.01-2.0 keV 범위에서 높은 이온 임플란테이션 속도로 작동 할 수 있습니다. 이 도구는 또한 최적의 에너지 및 도핑 프로파일을 사용하여 여러 웨이퍼를 동시에 처리할 수 있습니다. 이 자산은 빔 반복 속도, 빔 모양, 빔 전류, 총 빔 용량과 같은 빔 배출 매개변수를 정확하게 제어 할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap II는 에너지 및 프로파일 스캔, 이온화 모니터링, 현재 측정 등 다양한 모니터링 기능을 제공합니다. 이 모델은 또한 임플란테이션 (implantation) 프로세스를 실시간으로 모니터링하여 필요에 따라 조정할 수 있는 기능을 제공합니다. 또한, AMAT Quantum Leap II는 이식 단계를 통해 웨이퍼가 이동함에 따라 임플란트를 모니터링하고 조정하는 데 사용될 수 있습니다. 마지막으로 APPLIED MATERIALS Quantum Leap II (Applied MATERIALS Quantum Leap II) 는 이식 프로세스를 제어 및 모니터링하고 측정 및 결과를 기록하고 분석하는 다양한 고급 소프트웨어 솔루션을 제공합니다. 이러한 기능을 통해 사용자는 더 나은 제품 품질 (Product Quality) 을 제공하여 결과의 정확성과 일관성을 보장할 수 있습니다. 또한 소프트웨어 솔루션을 사용하면 임플란테이션 프로세스 중에 조정이나 수정 작업을 빠르게 수행할 수 있습니다 (영문). 이 장비는 모든 유형의 이온 이식 프로세스에 대한 포괄적 인 솔루션을 제공합니다.