판매용 중고 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON PROTEUS I #9235351

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON PROTEUS I은 반도체 산업, 특히 원자층 증착 (ALD) 및 화학 증착 (CVD) 프로세스를 처리하도록 설계된 시설 장비입니다. FSI PROTEUS I의 적용은 이러한 프로세스의 일부로 기질을 위치시키고 정렬하는 데 사용될 수있다. 온도와 대기를 자동으로, 정확하게 변화시키고, 증착 과정을 모니터링 할 수 있습니다. TEL PROTEUS I은 기존의 반도체 제작 시스템에 맞게 특별히 설계된 특수 챔버입니다. 초소형 원통형 챔버가 있으며, 개별 프로세스마다 최적화되어 있습니다. 기질은 유도 코일을 사용하여 가열됩니다. 이것은 강력한 마이크로파 신호와 결합되어 고온 CAD (Convective Assisted Deposition) 환경을 생성하는 데 사용됩니다. TOKYO ELECTRON PROTEUS I은 온도와 가스 흐름을 자동으로 정확하게 제어 할 수 있습니다. 특허받은 고효율 드럼 디자인을 활용하는 프로펠러 펌프가 장착되어 있습니다. 이것은 저유속 가스 제어 시스템 (flow-rate gas control system) 과 결합하여 가스 흐름을 정확하고 정확하게 제어 할 수 있습니다. 작동 압력은 1 백에서 1 천 torr이며 온도 범위는 섭씨 25에서 5 백도입니다. PROTEUS I에는 증착의 현장 분석을위한 실시간 모니터가 있습니다. 모니터는 각 레이어의 두께, 속도, 균일성, 구성을 열거할 수 있습니다. 이렇게 하면 배치 프로세스가 사양을 준수하게 됩니다. 또한 모니터는 진행 중 이상을 감지하고 연산자에게 경고할 수 있습니다. FSI/TEL/TOKYO ELECTRON PROTEUS I에는 다기능 원격 컨트롤러 장치가 있어 운영자에게 원격 위치에서 프로세스를 모니터링하고 제어할 수 있습니다. 이것 은 "모니터 '와 조정 을 위하여 기계 로 걸을 필요성 을 없애 준다. 또한 생산 라인 내에서 다른 기계와 상호 작용할 수 있습니다. FSI PROTEUS I에는 저소음, 고효율 팬 모터가 있습니다. 이렇게 하면 다른 프로세스에 영향을 주지 않고 장비를 클린 룸 (clean room) 에 사용할 수 있습니다. 또한 전문 가스 및 진공 시스템이 있습니다. 이를 통해 챔버를 빠르게 스크러빙하고 대피하여 대기 시간을 최소화 할 수 있습니다. 결론적으로, TEL PROTEUS I은 ALD, CVD와 같은 반도체 산업의 프로세스가 효율적이고 정확한 방식으로 수행되도록 설계된 시설 장비입니다. 즉, 매우 정확하고 제어 가능하며, 원격 위치에서 프로세스를 모니터링할 수 있는 기능을 운영자에게 제공합니다. 또한, 저소음, 고효율 팬 모터는 클린 룸에 적합합니다. 이 모든 기능을 통해 TOKYO ELECTRON PROTEUS I은 반도체 제작을위한 귀중한 도구가되었습니다.