판매용 중고 XENON RC-250B #9030988

XENON RC-250B 노출 장비 (XENON RC-250B Exposure Equipment) 는 광범위한 산업 응용 분야에서 광물질 및 드라이 필름의 자외선 (UV) 및 전자 빔 (EB) 노출을 위해 설계된 정밀 장치입니다. RC-250B는 고급 옵티컬 시스템 (Optical System) 과 뛰어난 정렬을 통해 노출 용량 및 강도에 대한 미세 조정 제어를 통해 최대의 공정 수율 및 정밀도를 제공합니다. XENON RC-250B는 특히 포토 마스크 및 레티클의 노출에 적합합니다. 빠른 변경 광학 장치를 사용하면 재 정렬 할 필요없이 다른 기판 크기를 노출 할 수 있습니다. RC-250B는 또한 매우 밀도가 높은 패턴의 세밀한 에칭을 위해 높은 전송 및 반사 각도를 특징으로합니다. XENON RC-250B 는 다중 채널 스위칭 전원 공급 장치와 광 경로 스위칭 머신 (Optical Path Switching Machine) 을 장착하여 다용도와 사용자에게 친숙한 기능을 제공합니다. 이를 통해 10:1 ~ 10,000: 1의 최적의 신호 대 잡음 비율에 이르는 최적의 노출 시간이 가능합니다. 이 도구는 2.5mm, 4mm 또는 5mm 슬릿으로 설정할 수도 있으며, 슬릿은 다른 기판 크기와 노출 속도에 맞게 조정할 수 있습니다. 세밀한 패턴 세부 사항을 지원하기 위해 RC-250B 노출 에셋에는 정밀도 정렬을 위한 가변 조리개 다이어프램 (variable-aperture diaphragm) 모델이 포함되어 있습니다. 횡경막은 기판 유형에 따라 초점을 맞추도록 조정할 수 있습니다. 노출 장비는 노출 강도를 조절하기 위해 자동 활성화 시스템을 추가로 통합합니다. 또한 XENON RC-250B 는 내부 냉각 장치로 설계되어 과열 방지 (overheating) 와 일관되고 안정적인 프로세스 주기를 보장합니다. 이 장치는 먼지, 수분, 영향을 방지하도록 설계된 견고한 금속 케이스 워크에 보관되어 있습니다. 또한, RC-250B는 에너지 비용과 운영 비용을 최소화하는 매우 경제적인 솔루션입니다. XENON RC-250B 노출기는 정밀 사진 해설을 위한 강력한 도구입니다. 고급 기능을 통해 노출 용량 및 정밀 정렬을 궁극적으로 제어할 수 있습니다. 강력한 구성, 성능 안정성, 비용 절감 효과를 제공하는 RC-250B 는 빠르고, 정확하게 노출되어야 하는 업계 어플리케이션에 이상적인 솔루션입니다.