판매용 중고 USHIO UVFLS-172-VP-QC #9328864

USHIO UVFLS-172-VP-QC는 연구 및 생산 시뮬레이션을 위해 광원을 기판에 노출시키는 데 사용되는 전문 노출 장비입니다. 이 시스템은 광범위한 노출 밀도 (imposure densities) 와 노출 시간 (exposure time) 을 가진 다양한 재료에 높은 조도를 생성 할 수 있습니다. 이 장치에는 최대 9000W의 열 출력으로 365nm 및 325nm 파장에서 UV 광원을 생성 할 수있는 UV 광원이 포함되어 있습니다. 또한 1 밀리 초에서 3 분 사이의 노출 시간을 허용하는 내장 셔터가 있습니다. 또한, 이 장치에는 먼지 입자가 노출 영역에 들어가는 것을 막는 동적 진공 장치 (dynamic vacuum unit) 가 있습니다. 이 장치에는 172 cm x 172 cm 생산 단계가 있으며, 가장 정확한 노출 결과를 얻기 위해 최대 45 도까지 조정 할 수 있습니다. 또한, 기계에는 가장 정확한 패턴을 만들 수 있는 자동 정렬 도구가 있습니다. 자산은 금속, 폴리머, 수지 및 플라스틱과 같은 다양한 재료를 지원합니다. 이 장치의 UV 형광 램프는 섭씨 -15 도까지 냉각되어 노출 될 수있는 UV 활성 물질의 분해를 막을 수 있습니다. 또한 UVFLS-172-VP-QC에는 각 노출이 정확하게 자동화되도록 하는 사용자 친화적 인 제어판이 포함되어 있습니다. 이 장치는 비활성화, 상수 전원, 인터럽트, 스파스 그리드, 가변 전원 등 6 가지 노출 모드 중 하나로 프로그래밍 할 수 있습니다. 또한, 장치에는 UV 광원에서 발생하는 열을 줄이기 위해 공랭식 모델이 있습니다. USHIO UVFLS-172-VP-QC의 또 다른 특징은 품질 노출 결과를 보장하는 QC 장비입니다. 이 시스템에는 시각 검사, 램프 및 광원 모니터링, 패턴 정확도, 사용자정의 노출 매개변수 등 여러 기능이 있습니다. 또한 모든 안전 프로토콜을 준수하도록 기계를 모니터링하는 내장 안전 장치 (내장) 가 포함되어 있습니다. 전반적으로 UVFLS-172-VP-QC는 다양하고 신뢰할 수있는 전문 노출 도구입니다. 폭넓은 기능 (fatures and function) 을 제공하여 정확한 노출 결과를 창출하려는 실험실과 연구 시설에 이상적인 선택이 됩니다. 자산은 9000W에 이르는 자외선 광원 (UV Light Source) 으로 다른 노출 시간과 밀도를 생성 할 수 있습니다. 또한 사용자 친화적 인 제어판, 동적 진공 모델, QC 장비가 포함되어 있어 품질 노출 결과를 보장합니다. 다양한 기능과 정확한 노출 기능을 갖춘 USHIO UVFLS-172-VP-QC는 모든 연구 시설에 적합한 선택입니다.