판매용 중고 USHIO UMA-802-HC552NCL #293749194

USHIO UMA-802-HC552NCL 노출 장비는 UV 및 가시 에너지 민감성 포토 esist 및 기타 재료를 노출하기위한 고급 도구입니다. 이 시스템은 photolithography에서 nanoimprinting에 이르기까지 다양한 응용 프로그램에서 사용하기에 적합합니다. UMA-802-HC552NCL은 재현성, 균일성 및 반복성이 뛰어난 자외선 및 가시 광원에 대한 높은 정밀 노출을 제공합니다. 노출 헤드는 8 개의 자외선 램프를 포함하여 159 개의 램프를 사용하며, 이는 다양한 노출 수준에서 사용자 요구 사항을 충족하도록 개별적으로 제어 할 수 있습니다. 노출 헤드에는 정적 및 동적 노출 조건을위한 10 단계 셔터가 장착되어 있습니다. 또한 외부 셔터 제어 및 24 비트 이미지 주소 기능이 통합되었습니다. USHIO UMA-802-HC552NCL (USHIO UMA-802-HC552NCL) 노출 장치는 스텝 기능과 처리량을 극대화하기 위한 여러 자동 기능으로 설계되었습니다. 스테퍼 (stepper) 기능은 스텝 및 반복 노출을 제공하는 반면, 노출 및 반전 (reversal) 방법은 노출 정확도가 향상된 필름 내 노출을 허용합니다. 노출 기계의 노출 헤드는 또한 시간 노출 모드를 통합하여 노출 단계 범위 (0.001 ms ~ 1 s) 에서 노출 시간을 정확하게 제어 할 수 있습니다. UMA-802-HC552NCL 노출 도구는 또한 여러 가지 안전 기능을 갖추고 있습니다. 안전하지 않은 양의 자외선 노출이 감지되면 자동으로 노출 영역을 닫는 저위치 셔터 (low-position shutter) 가 장착되어 있습니다. 노출 자산 (Exposure Asset) 은 전력 고장 (Power Failure) 이나 과열 (overheating) 시 자동으로 전원이 꺼질 수 있도록 설계되었으며, 노출 챔버의 온도와 습도를 안전한 범위 내에서 유지하는 환경 모니터링 (Environmental Monitoring) 모델도 제공됩니다. 전반적으로 USHIO UMA-802-HC552NCL 노출 장비는 에너지 민감성 광 주의자 및 기타 재료를 노출시키는 고급 도구이며, 뛰어난 재생성, 균일성, 반복성을 갖춘 자외선 및 가시 파장 소스에 대한 높은 정밀 노출을 제공합니다. 또한 처리량 (Optimized Throughput) 및 신뢰성 있는 출력을 위한 수많은 자동 기능과 안전 (Safety) 기능이 장착되어 있습니다.