판매용 중고 USHIO UMA-802-H600NP #9128577

USHIO UMA-802-H600NP는 사진 분석 프로세스를 위해 설계된 노출 장비입니다. 즉, 처리량 증가와 결함 최소화가 가능한 신뢰성이 뛰어난 시스템입니다. 기판에 패턴을 생성하고 전달하기 위해 180nm 리소그래피 및 노출 프로세스 (DUV) 를 사용합니다. 이 장치에는 최대 690x580mm 크기의 대형 기판을 스캔 할 수있는 대형 스캐닝 단계 (scanning stage) 가 있습니다. UMA-802-H600NP는 다양한 microfabrication 기술에서 고품질, 풍부한 기능, 복잡한 패턴을 생산할 수 있습니다. 이 기계는 직접 발광 램프 (direct-light emission lamps) 를 갖추고 있으며, 다양한 렌즈 구성과 필드 에너지 (field energy) 를 갖추고 있어 사용자가 가장 정확한 결과를 얻을 수 있습니다. 이 기계는 레이저 인터페이스 매트릭스 정렬 마커를 사용하여 패턴 전송 (pattern transfer) 프로세스에서 비교할 수없는 수준의 정확도를 제공합니다. 레이저 인터페이스 매트릭스 정렬 마커 (Laser-Interfaced Matrix Alignment Marker) 는 고정밀 인코더 및 장기 노출 모니터와 함께 사용되어 생성된 조각이 사양이 되도록 합니다. 또한 USHIO UMA-802-H600NP (USHIO UMA-802-H600NP) 에는 정적 압력 도구와 특허를받은 4 포인트 마운트 에셋이 장착되어 있으며, 이는 사용자가 시간 경과에 따른 높은 수준의 일관성으로 균일하고 정확한 노출을 얻을 수 있도록 해줍니다. 이러한 방식으로, 이 모델은 photomask 제작에 대한 고객의 요구를 완전히 충족시킵니다. 노출 장비는 또한 자동화된 왕복 웨이퍼 로딩 시스템을 갖추고 있으며, 이를 통해 생산성을 향상시킬 수 있습니다. 또한 UMA-802-H600NP는 8 인치 평면 패널 모니터와 직관적인 GUI (Graphical User Interface) 를 갖춘 소프트웨어로 설계되어 편리하고 간편하게 장치를 작동할 수 있습니다. 이 시스템은 또한 다양한 사용자 정의 가능 설정 (user settings) 을 제공하여 최적화된 사용자 환경과 유연한 작동 조건을 제공합니다. 또한, 고유하게 설계된 전원 공급 장치 (Power Supply) 는 전력 소비량 변동의 가능성이 높은 환경에서도 안정적인 작동을 보장합니다. USHIO UMA-802-H600NP 는 최첨단 노출 툴로서, 다양한 photolithography 애플리케이션에 대해 안정적인 운영 및 일관된 결과를 제공합니다. 이 자산은 첨단 기술 (advanced technologies) 의 조합을 통해 다양한 마이크로패브라이션 (microfabrication) 기술에서 정밀하고 복잡한 패턴을 만들 수 있습니다.