판매용 중고 USHIO UFX-2259B-AMB01 #9359375

USHIO UFX-2259B-AMB01은 반도체 산업을위한 정확하고 정확한 포토 리토 그래피 프로세스를 제공하기 위해 설계된 다목적 노출 장비입니다. 다양한 기판에서 높은 신뢰성 (High-Reliability) 패턴과 이미징 (Imaging) 을 생산하는 데 이상적인 기계로, 의료 기기 제조를 포함한 많은 응용 분야에 적합한 제품입니다. 폭로 시스템 (Exposure System) 에는 폭넓은 노출 범위를 가진 고속 스캐닝 메커니즘이 포함되어 있어 다양한 제품을 생산할 수 있습니다. UFX-2259B-AMB01 (UFX-2259B-AMB01) 은 큰 조명원을 특징으로하며, 기판 표면에서 균일 한 광도를 제공하여 재현 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. 또한 자외선 광원 (ultraviolet light source) 을 제공하여 이미징 과정에서 재료를 강화합니다. 진공 장치 (vacuum unit) 는 이미징 과정에서 플랫 베드 표면에 적절한 기판 접착을 보장하여 고화질 이미지 결과를 제공합니다. 동봉 된 챔버 (chamber) 에는 평판 (flatbed) 이 있으며, 이미징 과정에서 기질이 먼지 및 기타 입자로부터 보호됩니다. 컴퓨터에 제공된 제어 소프트웨어 (Control Software) 를 사용하면 노출 설정 및 매개변수를 완벽하게 제어할 수 있습니다. 각 기판에 맞춘 결과를 제공하기 위해 조명 수준 (lumination level), 스캐닝 프로세스 속도 (speed of the scanning process) 및 노출 영역 (exposure area) 등 다양한 설정을 프로그래밍할 수 있습니다. USHIO UFX-2259B-AMB01에는 정밀 정렬 메커니즘이 포함되어 있으므로 필요한 대상이 기판에 완벽하게 정렬됩니다. UFX-2259B-AMB01 (UFX-2259B-AMB01) 은 사진 해설의 과정을 효율적으로 제어하여 의료에서 전자 산업으로의 각 특정 응용 분야에 맞게 맞춤형 제품을 제공합니다. 컴팩트한 디자인과 조절식 조명원 (Adjustable Lumination Source) 은 정확하고 안정적인 이미징 결과가 필요한 다양한 어플리케이션에 이상적인 선택입니다. 이 도구는 전문적인 용도로 설계되었지만, 사용자 친화적 인 인터페이스 (user-friendly interface) 는 교육 기관에서 사용하기 좋은 선택입니다. 이를 통해 학생들에게 마이크로 테크놀로지 (microtechnology), 사진 해설학 (photolithography) 과 같은 개념을 소개하는 데 특히 적합합니다. 전반적으로, USHIO UFX-2259B-AMB01 노출 자산은 사용자에게 효과적이고 효율적인 이미징 솔루션을 제공하여 다양한 기판 및 어플리케이션에 탁월한 이미지 결과를 제공합니다. 조정 가능한 조명원 (lumination source), 정밀 정렬 메커니즘 (precision alignment mechanism) 및 밀폐 된 챔버 (closed chamber) 는 다양한 산업 및 교육 시설에 적합한 선택입니다.