판매용 중고 USHIO HB-25103BY #9167713

USHIO HB-25103BY는 사진 촬영 (photolithography), 평면 패널 디스플레이 (flat panel display), LCD, 반도체 제작 등 다양한 응용 분야에서 기판에 효율적이고 균일하게 노출되도록 설계된 노출 장비입니다. HB-25103BY (HB-25103BY) 는 고급 옵티컬 시스템과 컨트롤러를 노출 제어를 위한 선형 (linear) 단계와 통합하여 노출 과정에서 기판을 정확하게 포지셔닝할 수 있도록 합니다. 광학 장치는 이중 쿼츠 램프, 렌즈, 프로젝터로 구성되며, 1:1 이미징 비율의 평평한 시야를 제공합니다. 또한, 광학 기계는 0 - 1000 럭스 레벨에서 조절 할 수있는 조절 가능한 광도를 제공합니다. USHIO HB-25103BY에는 동작 제어 도구가 포함되어 있으며, 이 도구는 벡터 스캔 및 PWM (pulse width modulation) 제어를 포함한 다양한 구성을 지원할 수 있습니다. 모션 컨트롤 (Motion Control) 자산은 노출 정확도와 반복성을 최적화하도록 설계되었으며, ± 30 ° m 내에서 반복성 정확성을 달성 할 수 있습니다. 또한, HB-25103BY에는 타이머가 포함되어 0.01 초에서 600 초 사이의 정확한 노출 기간이 가능합니다. USHIO HB-25103BY는 일본어 메뉴와 스프레드시트 스타일의 GUI (Graphical User Interface) 를 결합한 안정성 및 사용자 친화적 인 운영 인터페이스를 제공합니다. GUI는 고객의 요구에 따라 모니터 컨트롤 (Monitor Control) 또는 터치스크린 (Touch-Screen) 버전을 사용하여 작동할 수 있습니다. USB 입/출력 포트를 사용하면 다른 컴퓨터에 쉽게 연결할 수 있고, 수많은 데이터 입력에 액세스할 수 있습니다. 또한 HB-25103BY에는 팬 순환 모델이 장착 된 온도 컨트롤러가 있습니다. 이를 통해 18 ° C ~ 30 ° C의 온도 조절이 가능하며, 노출 과정의 정확성에 대한 온도 변동의 영향을 최소화합니다. 또한, 장비는 고급 이미지 처리 소프트웨어와 호환되며, 패턴 배치, 크기 조절 또는 마스크 정렬이 가능합니다. USHIO HB-25103BY는 안정적이고 안전하며 최소한의 서비스 또는 유지 보수가 필요합니다. 따라서, 시스템은 정확하고 고급 노출 장치 (Exposure Unit) 를 추구하는 사람들에게 훌륭한 솔루션을 제공합니다.