판매용 중고 SEIWA Alpha 3000 #9302564

SEIWA Alpha 3000은 정밀 제작, 리소그래피 및 포토 esist 처리를 위해 설계된 고급 노출 장비입니다. 신뢰할 수 있고 반복 가능한 정확도로, 뛰어난 성능과 높은 수익률 결과를 제공합니다. 이 시스템은 길이 1 미터, 폭 400 밀리미터의 단으로, 최대 300mm 크기의 기판을 수용할 수 있으며, 다양한 실험에 적합합니다. 또한 사용자에게 0.1 ~ 1 초 (나노 초) 의 광범위한 노출 시간과 35mW/cm의 높은 피크 조도 (irradiance) 를 제공합니다. Alpha 3000에는 모든 구성 요소에 쉽게 액세스 할 수있는 인체 공학적 디자인이 있습니다. 여기에는 간소화된 모듈식 (modular) 유닛과 클리닝 및 유지 관리를 위해 손쉽게 교체, 교체 또는 제거할 수 있는 다양한 구성 요소가 포함됩니다. 또한 다양한 입/출력 포트 (input/output port) 와 안정적인 전원을 제공하여 효율적이고 효율적인 환경을 제공합니다. SEIWA Alpha 3000은 독특한 빔 스캐닝 머신을 사용하여 균등하게 분산 된 에너지를 확보하여 이미지 해상도를 매끄럽게 만듭니다. 이 도구는 2 개의 동기화 된 팔각형 스캐너로 구성되며, 이는 각도 표적의 제어 광원 분포를 생성합니다. 게다가, 조정 가능한 슬릿 셔터링 에셋 (slit shuttering asset) 이 장착되어 있어 사용자가 노출 시간과 강도의 양을 제어 할 수 있습니다. 또한 정확한 결과를 위해 노출 시간, 파장, 강도를 모니터링하는 디지털 피드백 (digital feedback) 모델도 갖추고 있습니다. 안전성 측면에서 알파 3000 (Alpha 3000) 은 입자 침입을 방지하기 위해 밀봉 된 금속 하우징으로 설계되었습니다. 또한 최적화 된 자외선 스펙트럼을 허용하는 통합 필터 (Integrated Filter) 장비가 장착되어 있습니다. 결과의 품질을 보장하기 위해 시스템은 4 점 온도 조절과 실시간 손상 감지 장치 (real-time damage detection unit) 도 갖추고 있습니다. 이는 사용자에게 결과에서 완전한 신뢰성과 신뢰성을 제공합니다. 신뢰할 수 있는 정확성, 포괄적인 안전 기능, 사용자 친화적 설계를 갖춘 SEIWA Alpha 3000은 정밀 제작 및 포토리스 시스트 (photoresist) 처리를 위한 완벽한 선택입니다. 빠른 프로토 타입, 반도체 제조 또는 재료 연구를위한 것이든, 알파 3000 (Alpha 3000) 은 모든 유형의 응용에 이상적인 선택을합니다.