판매용 중고 ORC DXP-3512 #9189059

ORC DXP-3512는 광학 리소그래피 마스크 생산을 위해 설계된 노출 장비입니다. 탁월한 해상도, 정확도 및 처리 성능을 제공합니다. 여기에는 12 프로젝터 시스템이 포함되어 있어 최대 12 개의 웨이퍼를 동시에 도구에 로드할 수 있습니다. 이 장치에는 248nm에서 193nm까지의 ArF와 248nm에서 157nm의 KrF를 포함한 선택 가능한 레이저 유형이 있습니다. 따라서 마스크 복제를 위한 최고 해상도와 충실도가 보장됩니다. 또한 12,800X12,800 해상도의 고해상도 디지털 마이크로 미러 장치 (DMD) 가 있습니다. 이것은 필드 깊이를 증가시키고 노출 오류를 줄이기 위해 용량을 자동으로 포커스합니다. DXP-3512 에는 2.5 초 내에 8 인치 직경의 웨이퍼를 인덱스하는 높은 처리량 인덱싱 머신이 있습니다. 공구의 최대 스캔 속도는 90 "/s에 이릅니다. 또한, 10 gr/step 해상도의 쿼츠 플레이트, 오일 슬라이드, 인덱싱 플레이트의 사용을 지원하여 사용자는 자산 내에서 웨이퍼를 정확하게 배치 할 수 있습니다. 이 모델에는 사용자에게 친숙한 그래픽 인터페이스를 제공하는 JVM (Java Visual Machine) 소프트웨어도 있습니다. 이를 통해 사용자는 쉽게 프로그램을 편집하고, 포괄적인 출력 보고서를 작성할 수 있습니다. 또한, 장비 기술과 컨트롤러가 발전함에 따라 소프트웨어를 쉽게 업데이트할 수 있습니다. ORC DXP-3512에는 고급 안전 기능도 있습니다. 소프트웨어 기반 인터 록 (interlock) 은 웨이퍼 및 노출 오류를 제거하며, 운영자의 과부하 및 레이저 에너지의 우발적 노출을 방지하는 하드웨어 기반 안전 인터 록 (Safety Interlock) 시스템을 포함합니다. 전반적으로 DXP-3512 는 고성능 마스크 복제를 위해 설계된 고급 노출 장치입니다. 사용자에게 높은 해상도, 처리량 및 정확성을 제공합니다. 또한 선택 가능한 레이저 유형, 고해상도 DMD, 고해상도 인덱싱 시스템, 사용이 간편한 소프트웨어, 고급 안전 기능이 있습니다. 이러한 기능을 사용하면 안정적이고 효율적인 노출 도구가 됩니다.