판매용 중고 OLEC VFSC3434 #109553

OLEC VFSC3434 노출 장비 (Exposure Equipment) 는 OLEC UV 광원과 모든 기판에 균일하고 신뢰할 수있는 광도를 생성하는 자동 보정기가 장착 된 최첨단 고정밀 UV 광 노출 시스템입니다. 광학 노출 장치 (Optical Exposure Unit) 는 햇빛을 시뮬레이트하는 강렬한 빛 방사선을 전달하여 다양한 플라스틱 재료 및 기판에 대한 가속 테스트 조건을 제공하기위한 것입니다. 이 노출기는 광폭광 (light exposure) 및 관측 (observation) 테스트를 위해 다양한 파장을 발산 할 수 있습니다. 광선은 UV 스펙트럼에서 200 ~ 800nm, 가시광선 스펙트럼에서 최대 1100nm로 조정 할 수 있습니다. VFSC3434 도구는 섬세한 기판을 빛의 노출에 노출시키도록 설계되었으며, 다양한 광원에 대한 반응으로 인한 속성의 급격한 변화를 감지하기 위해 사용될 수있다. 노출 장치는 단색 장치, 안정화 전원 공급 장치 및 셔터 자산으로 구성됩니다. 셔터 모델 (shutter model) 은 광 노출을 동기화하는 데 사용되며, 단색 장치 (monochromator) 는 원하는 파장의 복사를 분리하는 데 사용됩니다. 이 장치는 또한 최신 모션 감지 (motion sensing) 기술을 사용하여 노출 챔버 (exposure chamber) 내에 배치된 샘플의 정확한 위치를 모니터링하고 제어합니다. OLEC VFSC3434 Exposure Equipment에는 프로그래밍 가능한 설정 및 데이터 로깅을 지원하는 대형 LCD 터치 스크린 컨트롤러가 있습니다. 이 장치는 또한 한 번에 최대 10 개의 다른 샘플을 수용할 수 있으며, 최소 시간 (시간) 과 노력 (노력) 을 통해 최대 노출 효율을 달성할 수 있습니다. 또한, 시스템은 노출 챔버 내에서 일관된 온도를 유지하기 위해 내장 팬 (fan-in fan) 을 갖추고 있습니다. 균등하고 일관된 빛의 노출을 보장하기 위해 VFSC3434 (VFSC3434) 는 고출력 필터링 된 할로겐 램프를 사용하며, 이는 또한 강력한 짧은 파장 광원을 방출할 수 있습니다. 이 노출 장치에는 또한 쿼츠 히터 (quartz heater), 히터 가드 (heater guard) 및 노출 챔버 내에서 온도를 제어하기위한 냉각기 (cooling machine) 와 같은 선택적 액세서리가 제공됩니다. 또한, OLEC VFSC3434 노출 도구는 다양한 소프트웨어 및 통신 시스템과 통합될 수 있으므로, 노출된 샘플의 실시간 원격 제어 및 데이터 모니터링이 가능합니다. 결론적으로, VFSC3434 Exposure Asset은 강렬한 햇빛을 시뮬레이션하고 모든 기판에 균일하고 신뢰할 수있는 광도를 제공 할 수있는 강력하고 유연한 빛 노출 모델입니다. LCD 터치스크린 컨트롤러, 모션 센서, 프로그래머블 (programmable) 설정 등의 고급 기능을 통해 최대의 노출 효율과 제어를 제공합니다. 이 장비는 또한 다양한 소프트웨어/통신 시스템과 손쉽게 통합되므로 실시간 원격 제어 (Remote Control) 및 노출된 샘플에 대한 데이터 모니터링이 가능합니다.