판매용 중고 NIKON FX-21S #9285711

NIKON FX-21S는 최고의 정밀 석판 생산을 위해 설계된 고급 노출 장비입니다. 멀티 존 (Multi-Zone) 의 대칭 노출 헤드 (Symmetrical Exposure Head) 는 대형 기판을 균일하게 노출시킬 수 있으며, 자동 문서 시스템을 사용하여 노출 설정 및 결과를 기록할 수 있습니다. 노출 장치에는 200W 제논 아크 램프 (200W xenon arc lamp) 와 균일 한 선형 자극을위한 300W 금속 할라이드 램프 (halide lamp) 와 3 개의 다른 노출 구역을위한 모듈식 광학이있는 반사경이 제공됩니다. "크세논 '원 은 가장 일관성 있고 균일 한 광원 을 제공 하는 데 사용 되며 금속" 할라이드' 등 은 조그마 한 지역 에 더 집중 된 강도 를 제공 한다. 이러한 광원 조합은 각각의 다른 영역을 정확하게 노출시켜 포토 마스크 (photomask) 의 정확한 재생산을 보장합니다. 기계의 광학 부분은 고정밀 실리카 글라스 (silica glass) 로 만들어졌으며 온도와 습도 수동적입니다. 또한, 장기 재생성과 최소 열 소음을 위해 설계되었습니다. 광학 부품은 정확하고 정확한 노출 등록 및 제어를 위해 고성능 2축 트래버스 (double axis traverse) 플랫폼에 장착됩니다. 노출 헤드 (Exposure Head) 는 2 개의 레이저 마이크로미터 (Laser Micrometer) 와 통합되어 환경 변수의 기판 정렬 및 보상을 제공합니다. "레이저 '" 마이크로미터' 는 또한 광소시스트 '의 아주 작은 부분 을 제어 할 수 있는 노출 에 사용 된다. "마이크로미터 '는 다섯 개 의" 파라미터' 로 조정 할 수 있으며, 서로 다른 과정 에 대해 광저항 을 정확 하게 노출 시킬 수 있다. 등록 정확성 및 데이터 분석을 위해 FX-21S는 노출 시간, 노출 영역, 유형, 광원 기간 등 다양한 설정 매개변수를 기록하는 고급 자동 문서 (Automatic Documentation) 툴도 제공합니다. 모든 데이터는 체계화되어 검색하기 쉬운 형식으로 저장되며, 다른 형식으로 출력될 수 있습니다. 이 자산은 결과의 완전한 추적 가능성을 제공하여 정확하고 반복 가능한 노출 결과 (imposure result) 를 보장합니다. 또한, NIKON FX-21S 는 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 와 고급 소프트웨어 (advanced software) 를 제공하여 노출 프로세스를 쉽게 제어하고 출력된 데이터를 읽고 기록합니다. 이 "인터페이스 '는 여러 가지 언어 로 제공 되어 세계 각지 에서 사용 될 수 있다. 또한 전원 장애 (power failure) 와 같은 예상치 못한 이벤트가 발생할 경우 사용자를 보호하기 위한 안전 기능이 내장되어 있습니다. 결론적으로, FX-21S는 매우 정확하고 안정적인 노출 모델이며, 고정밀 석판화 생산을 위해 설계되었습니다. 자동 등록 (Automated Registration) 및 조정 (Calibration) 시스템이 장착되어 일관된 결과와 함께 정확한 노출을 보장합니다. 또한 사용이 간편한 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 를 제공하면서 최고의 정확성과 안전성을 제공하도록 설계되었습니다.