판매용 중고 MIDAS MDA-40FA #9358497

MIDAS MDA-40FA는 최적의 웨이퍼 에치 성능을 제공하기 위해 특별히 설계된 최첨단 노출 장비입니다. 이 시스템은 MIDAS 독점 VCR (Variable Component Ratio) 기술을 기반으로 사용자들이 균일 한 에치 프로파일과 높은 제조 수익률에 필요한 매개변수를 정확하게 설정할 수 있도록 합니다. MDA-40FA는 기판의 고성능 주행과 노출 전달의 정확성 향상을 결합합니다. 통합 PDS (Plasma Deposition Unit) 는 전용 마스크의 필요성을 제거하고 기판을 훨씬 빨리 처리 할 수 있습니다. 이 시스템에는 40 스테이션 프레임, 사용자 친화적 인 LCD 터치 스크린 디스플레이, 고압 (6 torr) 기판 환경 및 컴퓨터 기반 자동 프로세스 제어가 있습니다. MIDAS MDA-40FA를 사용하면 패턴, 클리닝, 에칭 및 증착을 포함한 다양한 프로세스 작업을 수행 할 수 있습니다. 또한 기판에 단일 레이어 필름을 배치 할 수있는 기회를 제공합니다. 또한, 이 도구는 통합 습식 클린 모듈 (wet clean module) 및 통합 플라즈마 에칭 모듈 (plasma etching module) 을 포함한 여러 스톡 모듈 모듈을 제공합니다. 습식 클린 챔버 (Wet Clean Chamber) 는 자동 청소를위한 저압 환경을 갖추고 있으며, 플라즈마 에칭 챔버 (Plasma etching Chamber) 는 최대 5 torr의 대기 압력으로 작동 할 수 있습니다. MDA-40FA는 작동 중 기판 매개변수에 대한 통합 보기를 제공합니다. 에셋의 단일 통합 뷰는 노출 중 기판 회전 속도, 셔터 속도, 셔터 각도 (shutter angle) 등 다양한 매개변수에 대한 정확한 제어 및 모니터링을 용이하게합니다. 또한, 특정 프로세스 요구 사항에 맞게 모델을 사용자 정의 설정으로 구성할 수 있습니다. 또한, 자동 제어 장비는 최대 25 개의 프로세스를 저장할 수 있으며, 사용 중인 재료에 대한 통찰력을 제공합니다. 또한 MIDAS MDA-40FA를 사용하면 노출 용량을 정확하게 제어하고 웨이퍼 모서리를 따라 균일성을 유지할 수 있습니다. 정교한 설계로 인해 수동 정렬이 필요 없으므로 처리량이 증가합니다. 또한, 시스템은 기판 챔버 내에서 온도를 제어함으로써 프로세스의 정확성을 보장합니다. 이를 요약하기 위해, MDA-40FA는 균일 한 웨이퍼 에치 성능을 제공하도록 특별히 설계된 고성능 노출 장치입니다. 고급 (Advanced) 기술을 통해 사용자는 처리량 및 제조 수익률 증가를 위해 다양한 매개변수를 정확하게 설정할 수 있습니다. 통합 고압 환경은 작동 중 기판 매개변수를 정확하게 제어합니다. 또한, 자동 제어 장치 (Automated Control Machine) 는 사용 중인 재료에 대한 통찰력을 제공하여 수동 정렬이 필요 없고 처리량이 증가합니다.