판매용 중고 MATSUSHITA Anup 5204 #9286451

MATSUSHITA Anup 5204 노출 장비는 리소그래피 프로세스에 사용하도록 설계된 자동 웨이퍼 노출 시스템입니다. 여기에는 정확한 위치, 노출 및 방향 제어를 제공하는 자동 웨이퍼 핸들러가 포함되어 있습니다. 빠르고 정확한 정렬을위한 매우 정확한 레이저 정렬 장치; 자동 (automated) 광 근접 수정 (optical proximity correction) 기술을 통해 결함 유형에 대한 자동 인식 및 노출 매개변수를 조정하여 이를 보완할 수 있습니다. 노출 기계는 포토 마스크 스캐닝 노출, 레티클 스캐닝 노출, 마이크로 리토 그래피 및 e- 빔 노출, 고/저 UV 노출 모드 등 다양한 노출 기능을 갖추고 있습니다. 또한 [노출 도구] 는 패턴 인식 및 교정 기능을 제공하여 불규칙성을 쉽게 파악하고 수정할 수 있습니다. Anup 5204 에셋은 높은 정확도 웨이퍼 스테이지 (wafer stage) 및 웨이퍼 처리 모델 (wafer handling model) 로 구성되며 정확한 웨이퍼 위치와 위치, 노출 및 방향 제어를 제공합니다. 또한, 노출 장비는 빠르고 정확한 레이저 정렬을 제공하며, 다양한 리소그래피 (lithography) 프로세스에 대한 정렬 및 노출 매개변수를 조정할 수 있습니다. 웨이퍼 전체의 고른 노출을 효과적으로 달성하기 위해 노출 시스템은 옵티컬 근접 수정 (OPC) 기술 (Optical Intimity Correction (OPC) 기술) 을 특징으로하며, 이는 DFM 요구 사항을 고려하여 노출 특성을 조정합니다. 이 기술을 통해 노출 장치는 특정 패턴 인식 (pattern recognition) 및 결함 인식 (defect recognition) 을 인식하고 보상 할 수 있습니다. MATSUSHITA Anup 5204 노출기는 다용도가 높으며 LCD 제조, photomask 제작, MEMS 제작 등 다양한 응용 프로그램에 사용할 수 있습니다. 또한, 이 툴은 총소유비용 (TCO) 을 제공하여 비용에 맞는 제조업체에 매력적입니다. 이 에셋은 또한 사용자에게 친숙한 컴퓨터 인터페이스 (computer interface) 를 제공하여 데이터 설정, 검색, 노출 상태 모니터링, 오류 메시지 확인 등의 작업을 수행할 수 있습니다. 노출 모델은 또한 다른 제조 장비 (fabrication equipment) 와 연결되어 데이터 연결 및 공유를 가능하게 할 수 있습니다. Anup 5204 노출 장비는 여러 프로세스 요구 사항에 대한 포괄적인 웨이퍼 (wafer) 노출 솔루션을 제공합니다. 정확한 웨이퍼 위치와 방향 제어를 제공할 뿐만 아니라, 고급 레이저 정렬 시스템 (Laser Alignment System) 과 자동 OPC 조정 기능도 갖추고 있습니다. 또한 다용도가 높으며, 다양한 응용 프로그램에 사용할 수 있습니다. 따라서 고품질 제품을 생산할 수 있는 효율적인 방법을 찾고 있는, 비용 효율적인 제조업체에게 적합한 선택입니다.