판매용 중고 HIGHMAX UV-200 #293751573

HIGHMAX UV-200은 반도체 프로세스 엔지니어링 분야에서 사용하도록 설계된 고급 노출 장비입니다. 시스템은 고출력 쿼츠 램프, 프레임 및 냉각 장치로 구성됩니다. 최대 200W/cm ² 의 우수한 UV 광 노출을 제공합니다. UV-200에 사용 된 쿼츠 램프 (Quartz Lamp) 는 우수한 사진 해설과 긴 수명에 대해 매우 최적화 된 스펙트럼을 가지고 있습니다. 이 프레임은 고품질 (High Quality) 재료로 구성되어 있어 노출 장치의 안정성과 안정성을 보장합니다. 냉각기 (cooling unit) 에는 쿼츠 램프의 수명을 크게 향상시키고 일관된 작동 온도를 유지하여 모든 노출 과정의 반복성과 일관성을 보장하는 열 방열 (heat-dissipation) 메커니즘이 내장되어 있습니다. HIGHMAX UV-200의 기능을 사용하면 최대 10nm의 노출 용량을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이 기계는 또한 UV 노출의 정확한 편향을 가능하게하기 위해 높은 정확도 웨이퍼 정렬과 자동 초점이 특징입니다. 사용자 친화적 인 그래픽 인터페이스와 직관적인 프로그래밍 설정을 통해 이 툴을 손쉽게 사용, 운영할 수 있습니다. 또한 프로그래밍 가능한 설정은 다양한 노출 모드, 노출 곡선 및 기타 사용자 정의 가능한 매개 변수를 활성화합니다. 또한, 에셋에는 고해상도 CCD 카메라가 장착되어 이미지를 실시간으로 캡처할 수 있으며, CCD 이미지를 캡처할 때 셔터 속도, 초점, 확대/축소, 셔터 영역 및 기타 매개 변수를 설정할 수 있습니다. 이 모델은 또한 중앙 추적 광원을 특징으로하여 전체 기판의 균일 한 노출을 보장합니다. 이 장비에는 시스템의 안전한 작동을 보장하는 보호 기능 (Protection Function) 도 있어 안정성이 향상됩니다. UV-200 은 다양한 반도체 프로세스 엔지니어링 애플리케이션에서 탁월한 성능과 뛰어난 신뢰성을 제공합니다. 이 장치는 다양한 기능을 통해 광석판 촬영, 소액화 (microfabrication), 레이저 보조 처리 (laser assisted processing) 및 기타 여러 가지 응용 분야에 이상적입니다.