판매용 중고 HAKUTO HAP-1100ST #293793159

ID: 293793159
빈티지: 2010
Automatic exposure system CCD Camera IR lighting Vacuum sealing UV Lamp Loading and unloading conveyor Temperature controller HEPA Unit LCD Touch panel Power supply: 220 V, 3 Phase, 50/60 Hz 2010 vintage.
HAKUTO HAP-1100ST는 반도체 제조에서 고정밀 리소그래피 프로세스를 위해 설계된 고급 노출 장비입니다. 이 최첨단 툴은 다양한 혁신적인 기술을 통합하여 집적 회로 (integrated circuit) 및 기타 반도체 (semiconductor) 장치의 제작에서 정확한 패턴화와 높은 생산성을 보장합니다. HAP-1100ST (HAP-1100ST) 의 주요 기능 중 하나는 최첨단 프로젝션 광학 시스템으로, 리소그래피 프로세스의 해상도와 정확도를 정의하는 데 중요한 역할을합니다. 이 단위는 여러 요소가있는 정교한 렌즈 배열을 사용하여 광원에서 극도의 정밀도를 가진 광자 코팅 된 기판 (photoresist-coated substrate) 에 광원을 집중시킵니다. 이를 통해 기계는 서브 미크론 (sub-micron) 수준의 해상도를 달성 할 수 있으며, 현대 반도체 장치에 필요한 복잡한 패턴을 높은 충실도로 충실하게 재생할 수 있습니다. HAKUTO HAP-1100ST (HAKUTO HAP-1100ST) 는 고급 옵틱 외에도 전체 노출 영역에 걸쳐 강렬하고 균일한 조명을 제공하는 고성능 광원을 갖추고 있습니다. 이 로 말미암아 광전도사 가 고르게 노출 되어, 최소 결함 과 일관성 있는 패턴 을 갖게 된다. 광도 (light intensity) 와 노출 지속 시간 (exposure duration) 을 미세하게 제어하여 각기 다른 리소그래피 응용 프로그램의 프로세스 매개변수를 최적화하여 사용자가 처리량 (throughput) 이나 품질 (quality) 에 영향을 주지 않고 원하는 패턴화 특성을 달성할 수 있습니다. 리소그래피 프로세스의 정밀도를 더욱 향상시키기 위해 HAP-1100ST (HAP-1100ST) 는 노출 중 기판을 지원하는 매우 안정적인 기계적 단계를 특징으로합니다. 스테이지에는 하위 나노 미터 위치 지정 (sub-nanometer positioning) 정확도를 활성화하는 고급 동작 제어 시스템 (advanced motion control systems) 이 장착되어 각 패턴 요소가 기판에 정확하게 정렬되고 등록됩니다. 이 스테이지는 노출 지점 사이에서 빠르고 부드럽게 움직일 수 있으며, 위치 정확도를 그대로 유지하면서 고속 패턴화 (patterning) 를 허용합니다. HAKUTO HAP-1100ST (HAKUTO HAP-1100ST) 에는 고급 정렬 및 오버레이 제어 시스템이 포함되어 있어 공구가 동일한 기판에 여러 패턴 레이어를 정확하게 등록할 수 있습니다. 이것은 다중 계층 구조를 갖는 복잡한 반도체 (semiconductor) 장치를 제작하는 데 필수적입니다. 즉, 각 레이어가 원하는 장치 기능을 달성하기 위해 기본 레이어와 정확하게 정렬되도록 합니다. 에셋은 정교한 이미지 처리 알고리즘과 피드백 (feedback) 메커니즘을 사용하여 잘못된 정렬을 실시간으로 감지하고 수정하여 패턴 처리 (patterning process) 가 부드럽고 정확하게 진행되도록 합니다. HAP-1100ST (HAP-1100ST) 에는 사용자 친화적 인터페이스가 장착되어 있어 운영자가 쉽게 노출 프로세스를 프로그래밍하고 제어할 수 있습니다. 이 모델은 기본 단일 샷 노출에서 다양한 노출 용량을 가진 복잡한 다중 패스 노출 (multi-pass exposure) 에 이르기까지 광범위한 노출 전략을 수용 할 수 있습니다. 사용자는 전용 소프트웨어 도구를 사용하여 사용자 정의 노출 패턴 (Custom Exposure Pattern) 과 레이아웃 (Layout) 을 정의할 수 있으며, 다양한 리소그래피 응용 프로그램에 유연하고 사용자 정의 가능한 패턴화 솔루션을 사용할 수 있습니다. 전반적으로 HAKUTO HAP-1100ST는 고급 옵틱, 정밀 모션 컨트롤 및 정교한 소프트웨어 기능을 결합하여 반도체 석판화에서 탁월한 성능을 제공하는 최첨단 노출 장비를 나타냅니다. 고해상도, 정확도, 생산성을 갖춘 이 시스템은 복잡한 패턴화 (Patterning) 및 엄격한 프로세스 제어가 필요한 고급 반도체 (Advanced Semiconductor) 장치의 제작에 적합합니다.
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