판매용 중고 HAKUTO HAP-1100ST #293793154

ID: 293793154
빈티지: 2010
Automatic exposure system CCD Camera IR lighting Vacuum sealing UV Lamp Loading and unloading conveyor Temperature controller HEPA Unit LCD Touch panel Power supply: 220 V, 3 Phase, 50/60 Hz 2010 vintage.
HAKUTO HAP-1100ST는 사진 분석 단계에서 반도체 제조 공정을 위해 설계된 최첨단 노출 장비입니다. 반도체 업계의 까다로운 요구사항에 부합하는 첨단 기능, 특징을 제공한다. 특히 "정밀도 '와" 효율성' 을 갖춘 고품질 집적회로를 생산한다. 이 강력한 노출 시스템은 업계 혁신과 신뢰성으로 유명한 반도체 장비 제조업체 인 HAKUTO Co., Ltd. (HAKUTO Co., Ltd.) 가 개발했습니다. 주요 특징: HAP-1100ST 는 시중의 다른 노출 시스템과 차별화되는 다양한 기능을 자랑합니다. 뛰어난 기능 중 하나는 고해상도 (High Resolution) 와 정밀도 (Precision) 로, 고급 옵틱과 고급 제어 메커니즘을 통해 달성됩니다. 이 장치는 서브 미크론 해상도 (sub-micron resolution) 를 달성 할 수 있으므로 기능 크기가 점점 더 작은 최첨단 반도체 장치의 생산에 적합합니다. HAKUTO HAP-1100ST의 또 다른 주목할만한 특징은 다양한 마스크 크기와 기판 유형을 다루는 다재다능성과 유연성입니다. 연구 개발 목적의 소형 포토 마스크 (photomask) 부터 대용량 제조에 사용되는 대형 생산 마스크 (mask) 까지 다양한 마스크 크기를 지원합니다. 뿐 만 아니라, 이 기계 는 "실리콘 웨이퍼 ', 유리 기판, 유연 한 기판 과 같은 여러 가지 기판 재료 를 수용하여, 다른 제조 필요 에 적응 할 수 있다. HAP-1100ST 는 생산성을 높이고 제조 프로세스를 간소화하는 고급 자동화 기능을 갖추고 있습니다. 자동 정렬 (Automated Alignment) 및 초점 시스템 (Focusing Systems) 을 통해 기판의 패턴을 정확하고 정확하게 노출할 수 있습니다. 이 툴에는 기존 제조 환경에 원활하게 통합하는 소프트웨어 제어 옵션 (Software control options) 도 포함되어 있어 운영 효율을 높이고 다운타임을 최소화할 수 있습니다. 또한 HAKUTO HAP-1100ST는 안정성과 가동 시간을 염두에두고 설계되었습니다. 강력한 구성 요소와 안정적인 플랫폼을 통합하여 오랜 운영 시간에 걸쳐 일관된 성능을 보장합니다 (영문). 이 자산은 대용량 생산 환경의 엄격한 (rigor) 에 견딜 수 있도록 구축되었으며, 최신 반도체 제조 설비의 요구를 충족시키기 위해 안정적인 운영 및 높은 처리량을 제공합니다. HAP-1100ST (Process Control and Optimization) 는 프로세스 관리 및 최적화 측면에서, 노출된 패턴의 품질과 일관성을 보장하는 고급 모니터링 및 수정 기능을 제공합니다. 이 모델에는 노출 매개변수를 실시간으로 모니터링하는 현장 (in-situ) 도량형 툴이 포함되어 있어 프로세스 성능을 즉시 조정할 수 있습니다. 또한, 이 장비는 근접 효과 수정 및 해상도 향상 기술 (Enhancement Technology) 과 같은 고급 노출 기술을 지원하여 패턴 충실도 (Fidelity) 와 수율을 더욱 향상시킵니다. 전반적으로 HAKUTO HAP-1100ST는 정밀성, 다양성, 자동화, 신뢰성 및 프로세스 제어를 결합하여 반도체 산업의 진화하는 요구를 충족시키는 최첨단 노출 시스템입니다. HAP-1100ST (HAP-1100ST) 는 고품질, 고성능 반도체 장치를 경제적이고 효율적인 방식으로 구현하고자 하는 반도체 제조업체에 유용한 툴입니다.
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