판매용 중고 ELECTRON VISION / AMAT / APPLIED MATERIALS EC-30200-AT11 #138799

ELECTRON VISION/AMAT/APPLIED MATERIALS EC-30200-AT11은 리소그래피/에칭/nanofabrication 응용 프로그램에서 뛰어난 성능을 제공하는 AMAT가 설계 한 고급 노출 장비입니다. 이 시스템에는 진공 챔버, 레이저 조명 투사 장치, 공정 제어를위한 고속 스캔 플랫폼이 있습니다. AMAT EC-30200-AT11은 4 인치에서 8 인치 (100mm ~ 200mm) 까지 가장 광범위한 웨이퍼 직경을 지원할 수 있습니다. 기계 는 여러 개 의 광자 "레이저 '를 이용 하여 리소그래피' 와" 에칭 '응용 프로그램 의 광도 를 정확 하게 조절 할 수 있다. 이 레이저는 최대 0.25um/1000 라인/mm의 해상도로 매우 균일 한 광도 및 높은 충실도 이미지를 생성 할 수 있습니다. 이 도구가 포함된 고속 스캔 플랫폼은 최대 1kHz 속도의 사진 (photolithography) 프로세스를 수행할 수 있습니다. 이렇게 하면 처리 속도가 훨씬 빨라지며, 프로세스의 균일성과 정확도가 높아집니다. 에셋은 또한 웨이퍼 전반에 걸쳐 반복 가능한 측정 및 정밀 처리를 허용하는 256 구역 간섭 도량형 (256-zone interferometric metrology) 모델을 특징으로합니다. ELECTRON VISION EC-30200-AT11은 에치 성능 향상을 위해 특수 가스와 고급 확산 메커니즘의 독특한 조합을 사용합니다. 여기에는 HF 기반 가스, 플루오로 카본 및 산소의 혼합물, O2, CF4, CHF3, CF6, CF2, CO2 및 기타 특수 가스가 포함됩니다. 이 장비는 또한 pH 수준을 정확하게 제어하는 고급 화학 분사 시스템 (Advanced Chemical Injection System) 과 가스 혼합물 표면 조건을 사용자 정의하기위한 자동 가스 선택 장치 (Automated Gas Selection Unit) 를 갖추고 있습니다. APPLIED MATERIALS EC-30200-AT11에는 제어 및 프로세스 모니터링을 제공하는 고급 자동화 머신도 있습니다. 여기에는 디스플레이 인터페이스 (Display Interface) 가 포함된 내장 제어 도구 (Imbedded Control Tool) 가 포함되어 있어 운영자가 원격으로 프로세스를 모니터링하고 조정할 수 있습니다. 또한 고속 네트워크 연결을 통해 에셋 컨트롤러 (Asset Controller) 와 기타 장치 간의 데이터 전송 및 교환을 용이하게 합니다. 결론적으로, EC-30200-AT11은 리소그래피, 에칭 및 nanofabrication 응용 프로그램에서 뛰어난 성능을 제공하도록 설계된 고도의 노출 모델입니다. 이 장비는 다중 광자 레이저, 고속 스캔 플랫폼, 다양한 특수 가스 (specialty gase) 및 화학 분사 시스템 (chemical injection system) 을 활용하여 다양한 웨이퍼 직경에 대해 정확하고 반복 가능한 결과를 제공합니다. 고급 자동화 시스템 (Advanced Automation System) 을 통해 운영자는 원격 제어 및 프로세스 모니터링 기능에 액세스할 수 있습니다.