판매용 중고 DRC UV-M10 #293642351

DRC UV-M10은 반도체 (semiconductor) 및 박막 (thin-film) 장치 생산에서 고성능을 위해 설계된 강력한 노출 장비입니다. 이 시스템은 고도로 자동화되어 기판 로딩, 노출 및 노출 후 베이크 (post-exposure bake) 의 세 가지 주요 포토 리토 그래피 처리 워크플로를 통합합니다. 통합 워크플로우는 효율적이고 경제적인 디바이스 제조 프로세스를 제공합니다. UV-M10은 효율적인 기판 로딩 및 언로드를 가능하게하는 2 개의 테이블 암이있는 대용량 원형 정렬 장치를 갖추고 있습니다. 수작업 (manual production) 과 자동화된 생산 (automated production) 을 모두 처리할 수 있으며, 기판의 크기와 생산 중인 장치 유형에 따라 정렬 정확도가 넓습니다. 또한, 이 시스템은 고객 요구 사항에 따라 손쉽게 구성하고, 사용자 정의가 가능하도록 설계되었습니다. 노출 도구에는 고급 초고해상도 투사 에셋이 장착되어 있습니다. 이 모델은 시간당 최대 1400 개의 웨이퍼를 처리하여 최대 40mJ/cm ² 의 actinic UV 에너지를 제공합니다. 또한, 액티닉 UV 방사선 (actinic UV radiation) 에 기질의 균등한 노출을 보장하는 가벼운 차폐 (light-shielding) 장비를 갖추고 있으며, 최종 장치의 균일 한 패턴 크기와 높은 균질성을 갖습니다. DRC UV-M10은 온도 조절, 빠른 냉각 및 건조, 반자동 샘플 처리 등 다양한 PEB (Post-Exposure Bake) 기능을 제공합니다. 이 제품은 디바이스 성능/생산량 측면에서 최적의 결과를 얻을 수 있도록 설계되었으며, 생산에 필요한 시간과 에너지를 최소화합니다 (영문). 또한, 이 시스템에는 다양한 소프트웨어 도구 (Software Tools) 가 제공되며, 이를 통해 사용자는 디바이스의 생산 요구사항에 따라 노출 매개변수와 기판 온도를 조정할 수 있습니다. 이는 안정적인 제조 공정 (Manufacturing Process) 을 보장하는 한편, 생산 중인 장치의 복잡성을 고려합니다. 이 소프트웨어는 또한 제조 공정 (Manufacturing Process) 과 관련된 잠재적 오염 문제, UV 방사선 수준 (UV Radiation Level) 과 같은 다양한 안전 및 환경 측면을 해결하도록 설계되었습니다. UV-M10 은 강력하고 효율적인 노출 장치로서, 반도체 (semiconductor) 및 박막 (thin-film) 장치 생산에 이상적인 솔루션을 제공합니다. 자동화된 워크플로우 (workflow) 와 고급 (advanced) 기능을 통해 제조업체는 비용 효율적인 방식으로 빠르고 안정적으로 고성능 장치를 생산할 수 있습니다.