판매용 중고 C-SUN UVE-M170C #293808695

C-SUN UVE-M170C는 photolithography, photoresist exposure 및 UV curing 프로세스와 같은 다양한 응용 프로그램에서 정확한 UV 광 노출을 위해 설계된 고급 노출 장비입니다. 이 최첨단 시스템은 자외선 (UV light) 의 강도, 파장, 노출 시간 (imposure time) 에 대한 뛰어난 제어 기능을 제공하여 광범위한 산업 및 연구 애플리케이션에 대해 정확하고 일관된 결과를 제공합니다. UVE-M170C 장치의 핵심에는 고강도와 균일성을 가진 특정 파장의 UV 빛을 방출하는 고성능 UV 광원이 있습니다. 이 기계는 자외선 (UV Light) 의 스펙트럼 출력을 제어하기 위해 고급 광학 (Optic) 과 필터 (Filter) 를 장착하여 특정 요구 사항에 맞게 노출 매개변수를 조정할 수 있습니다. 이러한 수준의 사용자 지정을 통해 C-SUN UVE-M170C는 다양한 UV 광 응용 프로그램을 위한 다용도 도구입니다. UVE-M170C의 노출 챔버는 UV 광 노출 프로세스를 위해 통제 된 환경을 제공하도록 설계되었습니다. 이 챔버 (Chamber) 에는 일반적으로 다양한 크기와 모양의 기판을 보유 할 수있는 동력 단계 (Motorized Stage) 가 장착되어 있으며, 노출 중 정확한 위치 지정 및 정렬이 가능합니다. 방은 또한 온도와 습도를 조절하는 도구 (tool) 를 갖추고 있으며, 노출 과정 전반에 걸쳐 안정적인 조건을 보장합니다. C-SUN UVE-M170C의 주요 기능 중 하나는 고급 제어 자산 (Advanced Control Asset) 인데, 이를 통해 사용자는 높은 정밀도로 노출 매개변수를 프로그래밍하고 모니터링할 수 있습니다. 모델은 일반적으로 UV 조명의 강도, 파장, 노출 시간에 대한 실시간 피드백을 제공하는 사용자 친화적 인 인터페이스를 통해 제어됩니다. 사용자는 복잡한 노출 시퀀스 (Exposure Sequence) 와 프로파일 (Profile) 을 쉽게 설정할 수 있으므로 사용자의 개입을 최소화하면서 원하는 결과를 쉽게 얻을 수 있습니다. UVE-M170C는 또한 노출 과정에서 사용자와 샘플을 보호하기 위한 안전 (safety) 기능을 갖추고 있습니다. 이 장비에는 일반적으로 인터 록 (interlock) 과 센서가 장착되어 있어 실수로 자외선 (UV light) 에 노출되지 않습니다. 또한, 이 시스템은 노출 과정에서 이상이 있거나 문제가 발생할 경우 사용자에게 경고할 수 있는 경고 장치 (alarm unit) 가 내장되어 있을 수 있습니다. 성능 측면에서, C-SUN UVE-M170C는 전체 노출 영역에서 높은 공간 해상도와 균일성을 제공합니다. 이 정밀도 수준은 기계가 높은 정확성 및 반복성 (예: 광석판 촬영 및 마이크로 패브라이션 프로세스) 이 필요한 응용 프로그램에 적합하게 만듭니다. 이 도구는 UV 치료 프로세스에도 사용될 수 있습니다. 여기서 자외선 (UV light) 의 제어 노출은 최적의 경화 결과를 달성하는 데 중요합니다. 전반적으로 UVE-M170C는 다양한 UV 경량 어플리케이션에 탁월한 제어, 정밀도, 안전성을 제공하는 최첨단 노출 자산입니다. 고급 기능과 기능을 갖춘 이 모델은 UV 경량 프로세스 (UV Light Process) 에서 안정적이고 일관된 결과를 얻으려는 연구원, 엔지니어, 제조업체에 유용한 툴입니다.