판매용 중고 ADTEC Anex-A2161 #9286116

ADTEC Anex-A2161은 고정밀 리소그래피 응용 프로그램을 지원하도록 설계된 고급 고급 고급 광학 노출 장비입니다. 고급 광학, 정밀 역학 및 최첨단 전자 장치의 독특한 조합을 사용하여 Anex-A2161은 마스크 정렬 (mask alignment) 및 직접 쓰기 (direct-write) 작업 모두에서 안정적이고 정확하며 반복 가능한 이미징 성능을 제공합니다. 이 시스템은 고정밀 2.5 배의 재현 장치와 강력한 LBS (Laser Beam Scanning) 미러 머신으로 구성된 고급 광학을 자랑합니다. 이러한 optic 조합은 10도 시야 내에서 고해상도 이미징을 가능하게 합니다. 또한, 설정에는 10 나노 미터 간격으로 420 나노 미터에서 570 나노 미터의 정밀 파장 선택을 제공하는 TLD (Tunable Laser Diode) 도구가 포함됩니다. TLD는 또한 노출 수준을 제어하는 데 사용될 수 있으며, 기존의 백색 광원보다 정밀도가 높습니다. 에셋은 또한 광학 부품을 정확하게 이동하고 배치하는 정교한 정밀 동작 플랫폼을 갖추고 있습니다. 이 모션 플랫폼은 가속 및 속도가 매우 낮은 고품질 광학 스테이지 (optical stage) 를 기반으로 제작되었습니다. 이 스테이지는 0.02 미크론의 정확한 위치 및 반복 성과 함께 X-Y 및 Z 이동 모두에 대해 프로그래밍 될 수 있습니다. 또한, 공압 작동 단계 메커니즘을 사용하여 샘플 지형 오류를 정확하게 보상하는 독특한 틸트 조정 (tilt adjustment) 메커니즘이 있습니다. 이 모델을 사용하면 소프트웨어 인터페이스를 사용하여 여러 노출 프로세스를 프로그래밍 할 수 있습니다. 프로세스는 최대 16 개의 개별 노출 명령으로 구성 될 수 있으며, 이는 단순한 형태 기반 명령으로 실행할 수 있습니다. 이를 통해 사용자는 다양한 노출 전략을 신속하게 구성, 저장, 회수할 수 있으며, 다양한 패턴을 단일 작업에 쉽게 통합할 수 있습니다. ADTEC Anex-A2161 (ADTEC Anex-A2161) 은 종합적인 기능 세트와 높은 수준의 운영 정교함을 결합하여 모든 리소그래피 응용 프로그램에서 최적의 결과를 제공합니다. 첨단 광학 및 모션 시스템은 나노 기술 (nanotechnology) 과 반도체 제조 (semiconductor manufacturing) 에서 광학 및 광자 연구 (photonics research) 에 이르기까지 다양한 분야에서 정밀 영상을위한 이상적인 도구가됩니다. 정교하고 신뢰할 수 있는 설계를 갖춘 Anex-A2161은 견고하고, 안정적이며, 반복 가능한 이미지를 구현하기 위한 완벽한 선택입니다.