판매용 중고 ADTEC Adex-3000S #9363513

ADTEC Adex-3000S Exposure Equipment는 아트 기능의 상태가있는 고급 웨이퍼 레벨 마스크없는 워크플로우 도구입니다. Adex-3000S는 다양한 반도체/MEMS 설계를 지원하기 위해 최대 15 미크론의 확장 해상도, 패턴화 성능, 해상도 범위를 제공합니다. 이 시스템에는 3 개의 쿼츠 램프 오목 미러가 장착되어 있으며 멀티 램프 어레이 설계는 기판 크기에 걸쳐 최대 8 인치까지 균일 한 조명 수준을 보장합니다. 또한 다양한 유형의 감광 필름, 양성 및 음성 감광 물질에 노출되는 것을 지원합니다. ADTEC Adex-3000S (ADTEC Adex-3000S) 는 또한 고급 실시간 변조 제어 장치를 갖추고 있으며, 이는 1.3nm 해상도까지 높은 정밀도, 미세 패턴화를 가능하게 하며, 인근 노출 지점과는 대조적입니다. 이 미세 그레인 정밀도는 선형성이 개선 된 피쳐 레벨에서 더 단단한 석판화 설계 매개변수를 가능하게합니다. 이 실시간 조정 머신은 또한 초점 입력 (focus input) 을 최적화하여 고속 및 고해상도 다중 패턴 노출이 가능하므로 처리량을 높일 수 있습니다. 이 노출 도구는 높은 처리량 공기/가스 대류 플레이트 (air/gas convection plate) 를 사용하여 노출 필드를 레벨아웃하는 새로운 설계 접근 방식을 사용합니다. 이를 통해 표면에 매우 균일 한 노출이 가능합니다. 또한, Adex-3000S는 노출 중 마스킹 오류 및 왜곡을 제거하기 위해 레이저 전력 변동을 감지하고 보상 할 수있는 자체 교정 자산을 사용합니다. ADTEC Adex-3000S Exposure Model은 플라즈마 웨이브 리소그래피 기능으로 인해 빠르고 안정적인 이미징 기능을 제공합니다. 이 기능을 사용하면 고속 노출을 달성하고, 이미지 왜곡을 대폭 최소화할 수 있습니다. 또한 "레이저 '" 에너지' 출력 을 조정 하고 모양 으로 하는 고급 "레이저 '" 에너지' 펄스 제어 장치 를 통해서도 해상도 가 향상 될 수 있다. Adex-3000S는 전용 마스크 블록이 필요하지 않은 고급 디자인의 배치 (batch) 생산 및 신속한 프로토타입을 지원합니다. 이로써, 특수 마스크가 더 이상 필요하지 않으므로 생산 비용이 크게 절감되고, 이를 통해 대량 생산 비용이 절감됩니다. 또한 신속한 턴어라운드 프로토 타입 및 검증 프로젝트가 가능합니다. 이 시스템은 기존의 마스크 생산 및 웨이퍼 처리에서 발생하는 병 목을 제거합니다. ADTEC Adex-3000S Exposure Unit은 고유한 기능의 조합을 제공하여 더 빠른 품질의 설계와 뛰어난 유연성을 제공합니다. 멀티 램프 어레이, 플라즈마 웨이브 리소그래피 (Plasma Wave Lithography) 및 자체 교정 머신 (Self-Calibration Machine) 을 사용하면 기존의 마스크 패턴보다 뛰어난 성능과 정확도를 제공합니다.