판매용 중고 BRANCHY TECHNOLOGY Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching (ICP-RIE) system #293814269

BRANCHY TECHNOLOGY ICP-RIE (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching) 장비는 반도체 제조 및 연구 응용 분야의 정확한 재료 에칭을 위해 설계된 고급 증발기입니다. 이 시스템은 ICP (inductively coupled plasma) 기술을 사용하여 고밀도 플라즈마를 생성하며, 이어서 뛰어난 균일성과 정확도로 재료를 에치하는 데 사용됩니다. ICP-RIE 장치는 에칭할 물질이 배치 된 챔버 (chamber) 와 고주파 전자기장을 생성하여 유도 결합 플라즈마 (inductively coupled plasma) 를 생성하는 RF 코일 (coil) 로 구성됩니다. "코일 '에 방사성 탄력 을 가하여" 플라즈마' 를 발화 시킨다. 이것 은 "가스 '공정 을 이온화 시켜 물질 표면 과 상호작용 하는 반응성 종 을 형성 하여 식각 을 한다. BRANCHY TECHNOLOGY ICP-RIE 기계의 주요 특징 중 하나는 이온 에너지 (ion energy) 와 방향성을 제어하는 능력으로, 정확하고 이방성 에칭 프로파일로 이어집니다. 이것은 나노 스케일 (nanoscale) 피쳐가 기판 표면에서 정확하게 정의되어야하는 반도체 제조 공정에서 중요합니다. 이 도구는 또한 높은 수준의 프로세스 유연성 (process flexibility) 을 제공하여 사용자가 특정 에칭 요구사항을 달성하기 위해 플라즈마 화학 및 프로세스 매개변수를 조정할 수 있습니다. 이러한 유연성은 실리콘, 이산화규소, 금속 및 III-V 화합물 반도체를 포함하여 광범위한 물질을 에칭 할 수있게합니다. BRANCHY TECHNOLOGY ICP-RIE 자산에는 고급 프로세스 모니터링 및 제어 기능이 장착되어 있어 일관되고 재현이 가능한 결과를 보장합니다. 광학 방출 분광법 (optical emission spectroscopy), 종단점 감지 (endpoint detection) 등의 실시간 프로세스 진단을 통해 사용자는 에칭 프로세스를 모니터링하고 실시간 조정을 통해 성능을 최적화할 수 있습니다. 또한이 모델에는 샘플 전송을위한 로드 락 챔버 (load-lock chamber) 가 있으며, 이는 챔버 다운타임을 최소화하고 전체 장비 생산성을 향상시킵니다. 로드 락 챔버 (load-lock chamber) 는 오염 물질에 대한 노출을 줄임으로써 깨끗한 처리 환경을 유지하는 데 도움이됩니다. ICP-RIE 시스템은 사용자 친화적 인 소프트웨어 인터페이스로 설계되어 프로세스 레시피 (process recipe) 및 매개변수 조정을 쉽게 프로그래밍할 수 있습니다. 즉, 운영 단순화, 신규 사용자의 학습 곡선 감소, 연구/운영 환경 모두에 이상적인 툴이 됩니다. 요약하면, BRANCHY TECHNOLOGY ICP-RIE 장치는 반도체 제조 및 연구 응용 분야를 위해 정확하고, 균일하며, 제어 가능한 재료 에칭 기능을 제공하는 최첨단 증발기입니다. 고급 기능 (advanced features) 과 유연한 작업 (flexible operation) 을 통해 장치 제작에서 서피스 수정 및 패턴화에 이르기까지 광범위한 재료 처리 작업을 수행할 수 있습니다.