판매용 중고 YES / GLEN R1 #9135632

YES/GLEN R1은 다양한 고급 기판 에칭 응용 프로그램에서 사용되는 Pulsed Plasma Ashing Equipment입니다. 전류의 움직임에 의해 생성 된 플라즈마 장 (plasma field) 을 사용하여 물질과 가스 분자 사이의 반응을 생성하는 자기 유도 플라즈마 공정 (self-induced plasma process) 의 원리에 기초한다. 즉, 최소 화학 반응물이 필요하고, 보다 안전하고 비용 효율적인 워크스테이션이 생성됩니다. 설계 측면에서, YES R 1은 스테인리스 스틸 진공 챔버, 유도 결합 RF 생성 시스템, 가스 입구 장치, 압력 부스팅 기계, 물 냉각 도구 및 기판 단계로 구성됩니다. 최대 8 개의 기판을 수용하는 진공 챔버 (vacuum chamber) 는 자기 유발 플라즈마 프로세스가 발생하는 데 필요한 환경을 제공합니다. RF 생성 에셋은 기판에 고주파 AC 전류를 적용하여 펄스 플라즈마 필드를 만듭니다. 가스 입력 (gas inlet) 모델에는 질량 흐름 제어기와 가스 압력 조절기 (gas pressure regulator) 가 포함되어 있어 에칭 가스의 압력과 유량을 챔버로 제어합니다. 압력 부스팅 (pressure boosting) 장비는 대기압에서 가능한 한 높은 압력을 달성 할 수있는 반면, 수냉식 시스템 (water cooling system) 은 반응 증기를 응축하고 챔버 및 RF 발생 장치에서 열을 추출하는 데 사용된다. "플라즈마 '장 에 대하여" 가열' 과 "냉각 '을 할 수 있는 기판 단계 는 가공소재 가 최적 위치 에 놓일 수 있도록 조정 할 수 있다. 응용의 관점에서, GLEN R-1은 사진 에칭, 음극 화 (anodizing) 및 드라이 필름 라미네이션 (dry film lamination) 과 같은 다양한 에칭 및 매혹적 프로세스에 사용될 수있다. 구리, 스테인리스 스틸, 알루미늄, 티타늄 등 다양한 금속에 사용할 수 있습니다. 또한 소프트 어닐링 (Soft Annealing) 에서 드로잉 어닐링 (Drawn Annealing) 에 이르기까지 광범위한 어닐링 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 결론적으로, GLEN R1은 고급 펄스 플라즈마 애셔 (pulsed plasma asher) 로, 기능에 매우 다재다능하며 운영에 매우 효과적입니다. 사용 편의성과 유지 보수 비용이 낮아 모든 에칭 (etching) 실습을 위한 완벽한 자산입니다.