판매용 중고 YES / GLEN G 1000 #293735345

제조사
YES / GLEN
모델
G 1000
ID: 293735345
Plasma cleaner (5) Trays Operation temperature: 20-100°C N2 Flow rate: 1.7 SCFM Process gas flow rate: 20-50 SCCM Interior chamber dimension (W x D x H): 45.72 x 45.72 x 30.48 cm Chamber material: 6061-T6 Aluminium SEMI Compliance: S2/S8 Mass Flow Controller: Up to 3 Range for exposure time: 0-1200 Seconds (20 Minutes) Resolution of timer setting: 1 Sec Performance: RF Plasma power: 0-1000 W @ 550 VAC RF Leakage magnetic: 0.6 mA/m, 4.15 x 10-7 A2/m² RF Leakage electrical: 1.6 V/m, 4.2 V2/m² Nitrogen consumption: 0 SCF, 6.8 SCF, 1.7 SCF Power consumption with pump: 375 W, 1000 W, 640 W Reactant gas consumption: 0 SCF, 20-50 SCCM Heat emission: 920 W Power requirements: 200-250 VAC, 20 Amps, 50/60 Hz, Single phase Does not include pressurized cylinder gas.
YES/GLEN G1000은 반도체 웨이퍼 및 기타 기판의 정확하고 효율적인 처리를 위해 설계된 고급 에처 (etcher) 및 애셔 (asher) 장비입니다. 이 다용도 툴은 다양한 기능을 제공하여, 연구 개발 (R&D) 과 대용량 생산 환경에 이상적입니다. 탁월한 성능과 신뢰성을 갖춘 YES G-1000 은 전 세계 반도체 제조업체와 연구 기관에서 널리 사용되는 선택입니다. 글렌 G 1000 (GLEN G 1000) 은 단일 플랫폼에서 에칭 및 애싱 기능을 결합한 듀얼 챔버 시스템으로, 사용자에게 탁월한 유연성과 프로세스 제어를 제공합니다. 이 장치는 고출력 RF 플라즈마 소스를 특징으로하여 실리콘, 이산화실리콘, 질화실리콘, 금속 등 다양한 물질의 빠르고 균일 한 에칭을 가능하게합니다. 이중 챔버 설계를 통해 수동 챔버 재구성 (manual chamber reconfiguration) 이 필요 없이 에칭 (etching) 프로세스와 애싱 (ashing) 프로세스를 빠르고 쉽게 전환할 수 있습니다. G-1000 의 주요 기능 중 하나는 고급 프로세스 모니터링 및 제어 기능입니다. 이 기계에는 여러 개의 센서와 모니터링 도구가 장착되어 있어 압력, 온도, RF 전원 등 프로세스 매개 변수를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 이를 통해 사용자는 프로세스 조건을 최적화하여 성능 및 반복 가능성을 극대화할 수 있습니다. YES/GLEN G 1000은 또한 고급 가스 흐름 제어 시스템 (gas flow control system) 을 갖추고 있어 가스 흐름 속도와 비율을 정확하게 제어하여 사용자가 균일하고 재현 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. 성능면에서 YES G 1000은 에칭 및 애싱 응용 프로그램 모두에서 뛰어납니다. 이 도구는 큰 웨이퍼 크기에 걸쳐 높은 에치 레이트 (etch rate) 와 뛰어난 균일성 (unifority) 을 달성 할 수 있으므로 대용량 생산 응용 프로그램에 적합합니다. YES/GLEN G-1000은 또한 웨이퍼 표면에서 포토 esist 및 기타 유기 오염 물질을 제거하기위한 정확한 애싱 기능을 제공합니다. 자산의 조정 가능한 애싱 (ashing) 매개변수를 사용하면 다른 재료 및 프로세스 요구 사항에 맞게 프로세스 조건을 최적화할 수 있습니다. YES G1000 은 사용자 편의성을 염두에 두고 설계되었으며, 사용자에게 친숙한 인터페이스와 직관적인 소프트웨어 제어 기능을 제공합니다. 이 모델의 소프트웨어 인터페이스 (Software Interface) 를 통해 사용자는 프로세스 레시피를 쉽게 프로그래밍하고 모니터링할 수 있으며, 고급 진단/문제 해결 도구에 액세스할 수 있습니다. G1000 은 또한 원격 모니터링 (remote monitoring) 및 제어 (control) 기능을 제공하여 사용자가 원격 위치에서 장비를 모니터링하고 제어하여 편리성과 유연성을 높일 수 있도록 합니다. 또한 G 1000 은 첨단 기능과 성능 외에도 안정성이 뛰어나고 유지 보수가 용이합니다. 이 시스템은 고품질 부품과 소재로 제작되었으며, 반도체 처리 (rigor) 환경을 견뎌낼 수 있도록 설계되었습니다. 글렌 G1000 (GLEN G1000) 은 모듈식 설계를 통해 유지 보수 및 서비스를 위해 모든 주요 구성 요소에 쉽게 액세스할 수 있습니다. 또한 자가 진단 툴 (Self Diagnostic Tools) 을 통해 사용자가 신속하게 문제를 파악하고 해결하여 다운타임을 최소화하고 생산성을 극대화할 수 있습니다. 전체적으로 GLEN G-1000은 최고의 성능, 다용도 및 신뢰성을 제공하는 최고의 에처 및 애셔 머신입니다. 고급 프로세스 제어 및 모니터링 기능, 고성능 에칭 및 애싱 기능, 사용자 친화적 인 인터페이스, 예/글렌 G1000 (YES/GLEN G1000) 은 프로세싱 요구에 적합한 최첨단 솔루션을 원하는 반도체 제조업체와 연구원에게 적합합니다.
아직 리뷰가 없습니다