판매용 중고 ULVAC UNA 2000 #163814

ULVAC UNA 2000은 다양한 제작 프로세스에서 탁월한 프로세스 성능을 위해 설계된 에처 (etcher) 및 애셔 (asher) 입니다. 이 장비는 정밀 마이크로 일렉트로닉 장치 제작에 적합하며, 반응성 및 비 반응성 가스 에치 (etch) 및 재 프로세스 모두에 대한 강력한 프로세스 제어를 제공합니다. UNA 2000은 가열/냉각 플레이트, 포토 마스크 플레이트 및 기판으로 로드 언로드 작업을 위해 로드 잠금 챔버를 사용합니다. 여기에는 6 인치 ~ 8 인치 단일 웨이퍼 클러스터 유형 엔드 이펙터와 프로세스 유연성을 위해 쿼츠 벨 노즐이있는 스캐닝 RF 서셉터 플레이트가 포함됩니다. 자동 가스 스위칭 기능이있는 최대 64 개의 가스 소스와 가스 유속 설정을위한 대량 흐름 컨트롤러 (Mass Flow Controller) 를 위해 ASTAR II 주소 지정 가능한 가스 매니 폴드를 포함하여 포괄적인 프로세스 제어 메커니즘이 제공됩니다. 이 시스템에는 진공 펌프, 흑연 슬리브 및 실드, 핫 라인 트랩, 극저온 펌프, 가스 패널 및 공정 제어 소프트웨어가 포함되어 있습니다. ULVAC UNA 2000에는 추가 Electro-beam 제어 장치 및 컨트롤러가 제공되며, 이를 통해 사용자는 대상 기판의 높은 에너지 파열을 프로그래밍 할 수 있습니다. 단계별 진단 메뉴를 사용하면 컴퓨터의 안전하고 안정적인 작동을 보장할 수 있습니다. UNA 2000 은 단일 웨이퍼 모드 (wafer mode) 와 배치 프로세스 모드 (batch process mode) 로 설계되어 개별 또는 배치 기판 간에 전환할 수 있습니다. 이 기능은 기판 로드 및 언로드를 단순화하는 데 도움이 됩니다. 이 도구는 또한 대상의 효과적이고 균일 한 에칭/애싱을 위해 고정밀 가스 분사 및 RF 기판 난방 에셋을 제공합니다. ULVAC UNA 2000은 시간당 최대 2000 개의 기판을 처리 할 수 있으며, 웨이퍼 이동 및 상태를 쉽게 제어할 수 있도록 터치 패널 모니터가 포함된 클러스터 컨트롤러 (옵션) 를 제공합니다. 여기에는 프로세스 가스 압력, 가스 흐름, 프로세스 제어 타이밍 (timing) 을 표시하기위한 모니터가 포함됩니다. 이 모델은 빠른 프로세스 설정 및 소프트웨어 다운로드를 위해 SRL (Standard Recipe Language) 을 통해 프로세스 레시피를 제공 할 수 있습니다. UNA 2000은 효율적이고 신뢰할 수있는 에처 (etcher) 및 애셔 (asher) 로 마이크로 전자 장치 제작에서 탁월한 성능을 제공합니다. 이 장비는 강력한 공정 제어, 광범위한 공정 제어 메커니즘, 고정밀 가스 분사 및 RF 기판 가열 시스템을 제공하며, 단일 웨이퍼 및 배치 공정 작업을 제공합니다. 이 장치는 까다로운 구성 프로세스를 위한 빠르고, 안전하고, 강력한 솔루션을 사용자에게 제공합니다.