판매용 중고 ULVAC NE 5500 #9281926

ULVAC NE 5500은 다양한 기판에서 재료를 빠르고 정확하게 제거하도록 설계된 고성능 드라이 에칭 머신 (dry etching machine) 입니다. 이 드라이 에처는 플라즈마 에칭, RIE (Reactive Ion Etching), 스퍼터 에칭 및 레이저 에칭과 같은 에칭 프로세스를 수행 할 수있는 완전 자동화 된 시스템입니다. 단순하고 직관적인 작업 패널 (operation panel) 을 사용하여 사용자가 수정할 수 있는 광범위한 프로세스 매개변수를 제공합니다. 이 최첨단 에처에는 고출력 RF 전력 발전기가 장착 된 플라즈마 소스 (Plasma Source), 챔버 온도 조절 시스템 (Chamber Temperon Control System) 이 장착되어 기판 처리를 정확하게 제어합니다. ULVAC NE5500 드라이 에처 (dry etcher) 는 챔버 온도 조절 시스템을 가지고 있으며 안정적인 저온 및 고온 공정과 함께 사용할 수 있습니다. 이러 한 과정 을 통해 "에칭 '과정 에 사용 되는 물질 과 화학 물질 을 정확 히 제어 할 수 있으며, 또한 기질 의 산화 및 손상 을 방지 할 수 있다. 약실은 외부 입자에서 오염을 제거하기 위해 10-6 토르 (torr) 미만의 총 압력으로 밀봉됩니다. 챔버에는 에칭 공정을 관찰하기위한 2 개의 석영 창문이 있습니다. NE-5500 드라이 에처 (dry etcher) 는 에칭 프로세스에 정확한 전력을 공급하는 데 사용될 수있는 고출력 RF 발전기를 갖추고 있습니다. 2 kHz ~ 8 MHz 범위의 다양한 주파수가 가능하며, 정확도가 높습니다. 이 에처는 또한 최대 정밀도 및 제어를 위해 균질 한 전력 분배를 보장합니다. RF 생성기 (RF generator) 는 또한 에칭 (etching) 과정에서 안전성과 신뢰성을 위한 연동 메커니즘을 가지고 있으므로 모든 유형의 간섭이 신속하게 제거됩니다. ULVAC NE-5500 드라이 에처에는 작동 중 최대 균일성을 보장하도록 설계된 소형 공정 챔버가 있습니다. 이 "챔버 '는 최대 의 정확도 를 제공 할 뿐 아니라, 식각 중 의 열 손실 을 최소화 하도록 설계 되었다. 챔버 내부는 내구성 향상을 위해 부식 저항 재료로 코팅됩니다. 게다가, 낮은 유지 보수 서비스를 제공하여 시간이 지남에 따라 고장이 줄어들고 성능이 향상됩니다. 전반적으로, NE 5500은 효율적이고, 안정적이며, 견고한 건조 에처로, 다양한 프로세스의 에칭 요구를 충족시킬 수 있습니다. 단순하고 직관적인 작동 패널을 통해 에칭 매개변수를 쉽게 조정할 수 있고, 고출력 RF 전원 생성기 (power generator) 는 에칭 중 정확성과 정확성을 제공하며, 유지 관리 (low-maintenance) 설계는 장기적인 성능을 보장합니다. 그렇기 때문에 ULNAC NE5500은 효율적이고 신뢰할 수있는 드라이 에처 (dry etcher) 를 찾는 사람에게 훌륭한 솔루션입니다.