판매용 중고 TRION Phantom Rie / Orion III #293820297

TRION Phantom Rie/Orion III는 반도체 제조, 연구 및 개발 응용 분야를 위해 설계된 최첨단 에처/애셔 장비입니다. 이 다재다능한 도구는 다양한 재료를 정확하게 에칭 및 청소하기위한 고급 프로세스 기능을 제공하여 마이크로 일렉트로닉스 (microelectronics), MEMS 장치 (MEMS devices), 광자 공학 (photonics) 및 기타 고급 기술의 제작에 필수적인 장비입니다. 팬텀 리온/오리온 III (Phantom Rie/Orion III) 에는 기판을 잘 제어하고 균일하게 처리 할 수있는 다양한 기능이 장착되어 있습니다. 이 시스템은 무선 주파수 (RF) 플라즈마 소스를 사용하여 에칭 및 애싱 프로세스를 위해 반응성 종을 생성합니다. RF 플라즈마 소스는 우수한 이온 에너지 제어를 통해 고밀도 플라즈마 (plasma) 를 생산하여 효율적이고 선택적인 재료 제거를 보장합니다. TRION Phantom Rie/Orion III의 주요 강점 중 하나는 다양한 기판 및 재료를 처리하는 유연성입니다. 이 장치는 높은 에치 선택성과 균일성을 가진 실리콘, 유리, III-V 화합물, 금속 및 중합체를 포함한 다양한 유형의 기질을 처리 할 수 있습니다. 즉, 기본 레이어를 손상시키지 않고 중요한 장치 구조를 에칭하거나 원하지 않는 측면 (sidewall) 프로파일을 생성하는 데 적합합니다. Phantom Rie/Orion III에는 같은 플랫폼 내에서 RIE 및 asher 프로세스를 모두 허용하는 구성 가능한 챔버 레이아웃이 있습니다. 이 기계는 변화하는 프로세스 요구사항을 수용할 수 있도록 손쉽게 조정할 수 있으며, '연구 및 개발 (R&D) 활동' 을 위한 다목적 도구입니다. 또한, 챔버 디자인은 고급 가스 전달 및 온도 제어 시스템을 통합하여 정확한 프로세스 매개변수 제어 및 재생성을 보장합니다. 처리 능력을 더욱 향상시키기 위해 TRION Phantom Rie/Orion III에는 고급 제어 시스템 및 소프트웨어 인터페이스가 장착되어 있습니다. 이 툴은 손쉬운 레시피 프로그래밍 및 프로세스 모니터링을 위한 사용자에게 친숙한 인터페이스를 제공합니다. 운영자는 필요한 프로세스 결과를 얻기 위해 가스 흐름 속도 (gas flow rate), 압력 (pressure), 전력 (power), 온도 (temper) 와 같은 주요 프로세스 매개변수를 면밀히 모니터링하고 조정할 수 있습니다. Phantom Rie/Orion III는 또한 안전 기능을 통합하여 운영자 보호 및 장비 신뢰성을 보장합니다. 자산은 사고 및 장비 손상을 방지하기 위해 인터 록 (interlock) 과 경보 (alarm) 로 설계되었습니다. 또한, 이 모델에는 강력한 진공 장비와 플라즈마 진단 (Plasma Diagnostics) 이 장착되어 있어 프로세스 안정성과 반복성을 유지합니다. 요약하면, TRION Phantom Rie/Orion III는 반도체 제조 및 연구 응용 프로그램을위한 고급 프로세스 기능을 제공하는 최첨단 etcher/asher 시스템입니다. 다용도, 신뢰성, 정밀 제어 기능을 갖춘 이 장치는 첨단 전자 장치 (Advanced Electronic Device) 및 소재 제작에서 에칭 및 애싱 (Ashing) 프로세스에 필수적인 도구입니다. 고급 기능과 사용자 친화적 인 인터페이스 (user-friendly interface) 는 정확하고 균일한 재료 제거가 필요한 연구 및 개발 활동에 이상적인 선택입니다.