판매용 중고 TRION Orion III #293800217

TRION Phantom LT는 반도체 제조 공정의 고성능 및 다용성을 위해 설계된 고급 etcher/asher 장비입니다. 이 최첨단 도구에는 에칭 (etching), 애싱 (ashing), 디커밍 (desumming), 사진 저항제 스트리핑 (photo resist stripping) 등 다양한 응용 프로그램에 대해 정확하고 균일 한 플라즈마 처리를 제공하는 혁신적인 기술이 포함되어 있습니다. Phantom LT (Phantom LT) 의 주요 기능 중 하나는 여러 프로세스 기능으로, 다양한 플라즈마 프로세스를 특정 요구 사항에 맞게 사용자 정의할 수 있습니다. 이 시스템에는 고주파 RF (High-Frequency RF) 전원과 다양한 가스 분사 옵션이 장착되어 있어 사용자가 최적의 프로세스 성능을 위해 압력, 가스 흐름 속도, 전력 수준 등의 매개변수를 제어 할 수 있습니다. 또한, 이 장치에는 정확한 프로세스 제어 및 엔드 포인트 결정을 위해 고급 엔드 포인트 감지 (endpoint detection) 기능이 장착되어 있습니다. 트리온 팬텀 LT (Trion Phantom LT) 는 2 개의 공정 가스를 독립적으로 제어 할 수있는 이중 가스 라인 설계를 특징으로하며, 서로 다른 가스 화학으로 복잡한 공정을 수행 할 수 있습니다. 이러 한 유연성 때문 에 기계 는 "이산화규소 '와" 실리콘' 질화물 을 식각 하는 것 에서부터 "포토리지스트 '를 벗기고 기판 표면 을 청소 하는 것 에 이르기 까지 광범위 한 응용 에 적합 하다. 공구의 챔버 (chamber) 는 고품질 알루미늄으로 구성되며 웨이퍼 (wafer) 의 전체 표면에 균일 한 플라즈마 분포를 제공하도록 설계되었습니다. 이는 일관된 처리 결과를 보장하며, 균일하지 않은 에칭 또는 애셔 효과의 위험을 최소화합니다. 이 챔버에는 프로세스 안정성 및 반복 성을 최적화하기 위해 온도 조절 (temperature control) 기능이 장착되어 있습니다. 팬텀 LT (Phantom LT) 는 고밀도 플라즈마 소스를 활용하여 효율적이고 균일 한 처리를 달성하는 고급 플라즈마 생성 기술을 제공합니다. 이를 통해 반도체 기판에서 유기 및 무기 물질을 빠르고 효과적으로 제거하여 고품질 에칭 (etching) 및 스트리핑 결과를 얻을 수 있습니다. 에셋에는 다이나믹 가스 분사 (dynamic gas injection) 모델도 장착되어 있어 프로세스 제어를 강화하고 프로세스 매개변수를 정확하게 튜닝하여 최적의 결과를 얻을 수 있습니다. 이 장비의 사용자 친화적 인 인터페이스와 직관적인 소프트웨어 (software) 는 운영 및 프로세스 모니터링을 간단하고 효율적으로 수행합니다. 실시간 프로세스 데이터 시각화를 통해 사용자는 압력, 온도, 전력, 가스 유량 (gas flow rate) 과 같은 주요 매개변수를 모니터링할 수 있습니다. 또한, 시스템의 레시피 관리 (recipe management) 기능을 통해 프로세스 최적화 및 제어를 손쉽게 수행할 수 있으므로 일관되고 반복 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. 결론적으로, TRION Phantom LT는 반도체 제조 응용 분야에 탁월한 성능과 유연성을 제공하는 최첨단 etcher/asher 장치입니다. 고급 플라즈마 처리 기능, 정확한 제어 기능, 사용자 친화적 인 인터페이스 (user-friendly interface) 를 갖춘 이 기계는 에칭 (etching), 스트리핑 (striping), 클리닝 (cleaning) 및 서피스 수정에 이르기까지 다양한 프로세스에 적합합니다. 리서치 개발 (Research and Development) 이나 대용량 생산 환경에 사용되는 Phantom LT는 안정적이고 고품질의 결과를 제공하므로 반도체 제작에 유용한 툴입니다.