판매용 중고 TOKYO ELECTRON TEL INDY PLUS-B-MVCFKT1 #293821795

ID: 293821795
빈티지: 2011
Vertical CVD furnace 2011 vintage.
TOKYO ELECTRON TEL INDY PLUS-B-MVCFKT1은 고급 반도체 제조 공정을 위해 설계된 최첨단 에처/애셔 장비입니다. 이 고도로 정교한 장비는 정밀 에칭 (precision etching) 과 애싱 (ashing) 기능을 결합하여 반도체 산업의 까다로운 요구 사항을 충족시킵니다. 혁신적인 디자인, 고급 기능 및 탁월한 성능을 갖춘 TEL INDY PLUS-B-MVCFKT1은 반도체 제작에서 에칭 및 애싱 프로세스에 유용한 도구입니다. TOKYO ELECTRON TEL INDY PLUS-B-MVCFKT1 시스템의 핵심에는 고성능 플라즈마 처리 기술이 있습니다. 이 장치는 가스, RF (radiofrequency) 전원 및 기타 프로세스 매개변수의 조합을 사용하여 에칭 및 애싱 프로세스에 사용되는 플라즈마를 생성합니다. TEL INDY PLUS-B-MVCFKT1의 플라즈마 에칭 기능을 사용하면 반도체 기판에서 재료를 정확하게 제거 할 수 있으며, 서브 미크론 해상도로 복잡한 패턴 및 구조를 구성 할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON TEL INDY PLUS-B-MVCFKT1의 애싱 능력은 반도체 표면에서 유기 오염 물질 및 잔기를 제거하는 데 필수적입니다. 이 과정은 표면에 남아 있는 잔류 물질이 성능 문제 (performance problem) 와 장치 고장 (device failure) 을 초래할 수 있으므로 반도체 장치의 품질과 신뢰성을 보장하는 데 중요합니다. TEL INDY PLUS-B-MVCFKT1의 애싱 기능은 기본 반도체 재료를 손상시키지 않고 유기 오염 물질을 효과적으로 제거하는 데 최적화되었습니다. TOKYO ELECTRON TEL INDY PLUS-B-MVCFKT1의 주요 기능 중 하나는 고급 프로세스 제어 기능입니다. 이 기계에는 최첨단 센서, 컨트롤러, 소프트웨어 알고리즘이 장착되어 있어 가스 흐름 속도, 온도, 압력, RF 전원 등 프로세스 매개 변수를 정확하게 제어할 수 있습니다. 이러한 제어 수준은 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스의 반복성과 일관성을 보장하여 높은 프로세스 수익률과 디바이스 성능을 제공합니다. 고급 프로세스 제어 기능 외에도 TEL INDY PLUS-B-MVCFKT1은 높은 생산성과 처리량을 위해 설계되었습니다. 이 도구는 다중 챔버 (multi-chamber) 설계를 통해 여러 기판을 동시에 처리할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON TEL INDY PLUS-B-MVCFKT1은 기판의 자동 로드 및 언로드를 지원하여 수동 개입을 줄이고 반도체 제조의 전반적인 효율성을 향상시킵니다. TEL INDY PLUS-B-MVCFKT1에는 운영자 및 장비 자체의 보호를 보장하기 위해 고급 안전 기능이 있습니다. 이 자산에는 내장 가스 탐지 센서, 인터 록 (interlock) 및 비상 셧다운 메커니즘이 포함되어 있어 사고를 예방하고 반도체 제조 환경에서 안전한 운영을 보장합니다. 전반적으로 TOKYO ELECTRON TEL INDY PLUS-B-MVCFKT1은 반도체 제조 공정에 탁월한 성능, 정밀 및 신뢰성을 제공하는 최첨단 에처/애셔 모델입니다. 고급 플라즈마 처리 기술, 정교한 프로세스 제어 기능, 높은 생산성 기능을 갖춘 TEL INDY PLUS-B-MVCFKT1은 뛰어난 장치 성능과 생산성을 달성하기 위해 필요한 반도체 제조 시설의 필수 도구입니다.
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