판매용 중고 TOKUDA CDE7-3 #293819193

TOKUDA CDE7-3은 반도체 및 마이크로 일렉트로닉스 제조에 사용되는 다양한 재료를 정확하고 효율적으로 처리하도록 설계된 고급형 etcher/asher 장비입니다. 이 다용도 (versatile) 툴은 다양한 기능과 기능을 제공하여 연구/생산 시설에 적합한 옵션을 제공합니다. 코어에서 CDE7-3에는 강력한 플라즈마 기반 에칭/애싱 챔버 (etching/ashing chamber) 가 장착되어 기판 표면에서 재료를 선택적으로 제거 할 수 있습니다. 이 과정은 반도체 웨이퍼 (wafer), 디스플레이 패널 (display panel) 및 전자 장치에 사용되는 기타 고급 재료에서 복잡한 패턴, 구조, 기능을 만드는 데 필수적입니다. TOKUDA CDE7-3은 플라즈마 화학과 물리 스퍼터링 (physical sputtering) 의 조합을 사용하여 전체 기질 표면에서 높은 에칭/애싱 속도 및 균일 한 처리를 달성합니다. 이는 제조 공정의 균일성 (unifority) 과 일관성 (consistency) 을 유지하여 최종 제품의 품질과 신뢰성을 보장하는 데 중요합니다. CDE7-3 의 주요 특징 중 하나는 고급 RF 전원 공급 장치 (Advanced RF Power Supply System) 로, 전원, 주파수, 듀티 사이클 등의 플라즈마 매개변수를 정확하게 제어할 수 있습니다. 이러한 제어 수준은 각기 다른 재료 및 기판 크기에 대한 에칭/어싱 (etching/ashing) 프로세스를 최적화하여 높은 프로세스 반복성과 효율성을 보장하는 데 필수적입니다. 고급 RF 전원 공급 장치 외에도, TOKUDA CDE7-3에는 에칭/애싱 챔버 (etching/ashing chamber) 내에서 공정 가스의 정확하고 균일 한 분배가 가능한 정교한 가스 전달 기계가 장착되어 있습니다. 이 기능은 균일 한 에치 레이트 (etch rate) 및 선택성 (selectivity) 달성, 측벽 손상 최소화 및 높은 수준의 프로세스 제어에 필수적입니다. 또한 CDE7-3 은 사용자 정의 가능한 프로세스 레시피 관리 툴을 통해 특정 애플리케이션 및 재료에 대한 에칭/애싱 레시피 (etching/ashing 레시피) 를 만들고 최적화할 수 있습니다. 이 유연한 자산을 사용하면 가스 흐름 속도, 압력, 온도, 플라즈마 전원과 같은 프로세스 매개변수를 세밀하게 조정하여 원하는 에칭/어싱 (etching/ashing) 결과를 얻을 수 있습니다. 향상된 프로세스 모니터링 및 제어를 위해 TOKUDA CDE7-3에는 현장 플라즈마 센서, 광학 방출 분광학, 엔드 포인트 감지 시스템 등 다양한 진단 및 도량형 도구가 장착되어 있습니다. 이러한 도구를 사용하면 프로세스 매개변수, 프로세스 편차 감지, 에칭/어싱 레시피 최적화 등을 실시간으로 모니터링하여 프로세스 성능을 향상시킬 수 있습니다. 안전성 및 신뢰성 측면에서 CDE7-3 은 여러 안전 연동 (Safety Interlock), 진공 무결성 모니터링 시스템 (Vacuum Integrity Monitoring System) 및 긴급 종료 (Emergency Shutdown) 프로토콜로 설계되어 안전한 운영을 보장하고 장비 및 운영자를 모두 위험 요소로부터 보호합니다. 전반적으로, TOKUDA CDE7-3은 다양한 반도체 및 마이크로 일렉트로닉스 제조 응용 프로그램에 대한 고급 기능, 정확한 프로세스 제어 및 높은 신뢰성을 제공하는 최첨단 에처/애셔 모델입니다. 다용도, 유연성, 사용자 친화적 인 인터페이스를 통해 높은 처리량과 효율성으로 탁월한 에칭/애싱 (etching/ashing) 결과를 얻기 위해 연구 실험실, 파일럿 생산 라인, 대용량 제조 시설에 이상적인 툴이 됩니다.