판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Vigus harc #9244885

TEL/TOKYO ELECTRON Vigus harc는 반도체 제작 프로세스에 사용하도록 설계된 에처 또는 애셔입니다. 이 장비는 PECVD (microwave plasma enhanced chemical vapor deposition) 를 기반으로하며, 산화물, 질화물 또는 금속 층의 형태로 웨이퍼에 실리콘, 저마늄 및 기타 재료의 박막을 침전시키는 데 사용됩니다. 에처는 저압 정전 식 RF 방전 셀로 구성된 플라즈마 소스를 특징으로합니다. 이 시스템에는 산소, 테트라 플루오로메탄, CF4, 염소, 질소와 같은 광범위한 플라즈마 가스와 이러한 가스의 조합을 식각 할 수있는 멀티 모드 전원 공급 장치가 장착되어 있습니다. 에칭 챔버 (etching chamber) 에는 화학적으로 내성이있는 내부 벽과 밀폐된 진공 장치가 장착되어 있습니다. 특수 가열 장치 (special heating unit) 를 약실에 연결하여 에칭 프로세스 온도를 최소화하여 에칭 결과를 최적화합니다. TEL Vigus harc etcher는 직경이 2 ~ 12 인치 인 다른 크기의 웨이퍼를 수용하도록 조정되었습니다. 이 기계는 사용하기 쉽도록 설계되었으며, 모든 도구 설정에 액세스하기 위한 GUI (Graphical User Interface) 가 있는 제어 콘솔 (Control Console) 이 포함되어 있으며, 프로세스 수신이 프로그램 및 수정에 편리합니다. 또한 안전성 (Safety) 및 제품 품질 (Product Quality) 에 필요한 업계 표준을 충족하는 높은 신뢰성을 제공하도록 설계되었습니다. 고급 모니터링 자산 (Advanced Monitoring Asset) 은 모든 문제를 신속하게 감지하고 운영자에게 경고 (이상 발생) 할 수 있습니다. 온보드 통신 모델 (On-board communications model) 은 또한 다른 연결된 장치 및 시스템에 알림을 신속하게 전송하여 프로세스 모니터링 및 제어를 개선할 수 있습니다. 결론적으로, TOKYO ELECTRON Vigus harc etcher는 안전성과 제품 품질이 향상된 안정적이고 유연한 에칭 솔루션입니다. 고급 플라즈마 소스 (Plasma Source) 및 처리 기능을 통해 반도체 제조 프로세스에 이상적인 툴이 됩니다.