판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Unity IIe 855SS #9033646

TEL/TOKYO ELECTRON UNITY IIe 855SS는 탁월한 성능과 향상된 프로세스 기능을 제공하는 차세대 단일 웨이퍼 플라즈마 에칭 도구입니다. 공정 균일성 (process unifority) 을 최적화하고 구성 요소를 침식하지 않고 정밀한 가스 제어를 제공하는 고급 플라즈마 소스가 특징입니다. TEL UNITYIIE-855 SS는 특허를받은 저온 확산 플라즈마 소스를 가지고 있으며, 최대 처리량, 반응성 종의 뛰어난 정밀 제어를 통해 우수한 성능을 제공합니다. TOKYO ELECTRON UNITY IIE-855SS는 -60 ° C의 낮은 온도에 도달 할 수있는 고정밀 웨이퍼 단계를 특징으로합니다. 이 단계는 원하는 특성을 가진 서피스를 생성하는 데 적합한 향상된 배치 프로세스 (Enhanced deposition process) 를 제공합니다. 웨이퍼 스테이지는 최첨단 모터 및 스테퍼 코일 (stepper coil) 장비로 구동되어 정확하고 균일 한 에너지 분포를 보장합니다. PC 제어 프로덕션 시스템에는 에칭 (etching) 프로세스를 실시간으로 모니터링하고 문제가 발생할 경우 사용자에게 경고할 수 있는 정교한 진단 장치 (diagnostics unit) 도 포함되어 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON UNITY IIE-855SS에는 웨이퍼와 진공실 사이의 입자 및 오염 물질의 기계적 전달을 제거하는 완전 통합 머신이 장착되어 있습니다. 이 포괄적인 도구는 최고 수준의 정결 및 프로세스 반복성을 보장합니다. 또한 TEL/TOKYO ELECTRON UNITY II E 855SS는 식각 공정에 화학적 증기 증착 (CVD) 및 반응성 이온 에칭 (RIE) 챔버를 포함한 광범위한 챔버 구성을 사용하도록 지원합니다. TEL UNITY IIE 855 SS는 또한 에너지 효율이 높은 설계를 가지고 있으며, 다른 에칭 툴보다 전력을 적게 소비하면서 빠른 속도로 실행할 수 있습니다. 고급 제어 소프트웨어를 통해 무인 운영 (Unattended Operation) 과 자동 레시피 (Automated Recipe) 를 통해 웨이퍼 로드 및 언로드뿐만 아니라 운영 데이터, 조정 기록, 성능에 대한 정보를 제공하는 통합 온라인 추적 자산이 제공됩니다. 전반적으로 TEL UNITY IIE-855SS는 탁월한 프로세스 기능과 향상된 비용 절감 기능을 제공하는 고성능 에칭 툴입니다. 첨단 기술, 에너지 효율적인 설계, 종합적인 제어 모델을 통해 어플리케이션 에칭을 위한 안정적이고 효율적인 옵션입니다.