판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Unity IIe 855DD #293646444
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TEL/TOKYO ELECTRON UNITY IIe 855DD는 태양 광 발전 (PV) 응용 분야를 위해 특별히 설계된 에처/애셔입니다. 이 장치는 대용량 장치 (Large Area Device) 제조를 위한 비용 효율적이고 다용도 솔루션입니다. TEL UNITY IIE 855 DD는 가스 패널과 터보 펌프 장치로 구성됩니다. "가스 '" 패널' 은 정확 하고 예측 가능 한 질소 대기 를 전달 하는 반면 "터보 '" 펌프' 장치 는 부드럽고 효율적 인 전달 을 가능 하게 하여 식각 과정 에 걸친 균일 한 반응 을 보장 한다. 가스판과 터보 펌프 장치 (Turbo Pump Unit) 는 함께 높은 정확도를 달성하여 엄격한 프로세스 제어를 보장할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON UNITY II E-855DD에는 최첨단 센서 시스템이 장착되어 있어, 매번 정확하고 일관된 처리를 보장합니다. 주요 화학 물질의 압력, 온도, 흐름, 분배를 모니터링하여 실시간 데이터 (data-time data) 및 프로세스 분석을 가능하게 합니다. 이 피드백은 고품질 및 결함이 없는 PV 셀 (PV cell) 생산을 지원하는 최고의 에칭 결과를 제공합니다. TOKYO ELECTRON Unity IIe 855DD는 에칭 전에 보호 코팅을위한 쿼츠 금속 핫월 CVD를 갖추고 있습니다. 공정 속도는 최대 300mm/min이며 에칭 깊이는 500에서 1000nm 사이입니다. 챔버 크기는 600 x 600mm이고 전력은 2kW입니다. 이 장치에는 스캐닝 범위가 100 x 100 mm 인 전동 리프트 및 경사계 팬이 포함됩니다. 또한, UNITY II E-855DD는 프로세스 유연성을 고려하여 설계되었으며, 최소한의 노력으로 다양한 프로세스 레시피로 신속하게 재구성할 수 있습니다. 이를 통해 사용자는 신속한 처리 시간 (Turnaround Time) 을 통해 이점을 얻을 수 있으며 운영 효율성을 극대화할 수 있습니다. TEL Unity IIe 855DD etcher/asher는 정밀도, 프로세스 제어 및 데이터 피드백을 제공하는 PV 장치 제조를 위한 탁월한 솔루션입니다. 또한 매우 유연하며, 최소한의 노력으로 넓은 영역과 고품질 에칭을 생산하도록 설계되었습니다.
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