판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Unity IIe 85 DPATC #9091881
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ID: 9091881
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 1996
Etcher, 6"
Wafer type: Flat-zone
Processing type: Vacuum
Wafer loading type: Normal
(2) Chambers
Mass flow controller:
Gas No / Gas Name / MFC Size (SCCM)
Gas #1 SF6, 200
Gas #2 HE, 1 SLM
Gas #3 O2, 20
Gas #4 AR, 1SLM
Gas #5 CHF3, 100
Gas #6 CF4, 100
Pressure controller V/V:
Item / Make / Model
ISO V/V (PC1), FUJI SEIKI, 6000729
ISO V/V (PC2), FUJI SEIKI, 1616812
APC (PC1), VAT, 61140-PH52
APC (PC2), VAT, 61140-PH52
Gauge:
Unit / Make / Model / Range
Baratron, MKS, 622A02TAB, 2 Torr
Baratron, MKS, 622A02TAB, 2 Torr
Baratron, MKS, 622A11TAE, 10 Torr
Baratron, MKS, 622A01TAE, 1 Torr
System:
Description / Make / Model
Robot, YASKAWA, VS2A
Robot controller, YASKAWA, SRC-II 004
TMP (PC1), SEIKO SEIKI, STP-H751E
TMP controller (PC1), SEIKO SEIKI, STP-H751E
TMP (PC2), EDWARDS, STP-H751E2
TMP controller (PC2), SEIKO SEIKI, STP-H751E
Generator (PC1), DAIHEN, MFG-20SA
Generator (PC2), DAIHEN, MFG-20SA
Matcher (PC1), DAIHEN, MFM-20AS
Matcher controller (PC1)
Matcher (PC2), DAIHEN, MFM-20AS
Matcher controller (PC2)
EPD (PC1)
EPD (PC2)
HDD (Data): HDS728080
AC rack (PCB):
SVA004a
SVA603
MVME162
TVB0002
TVB3101
TVB0008
TC (PCB):
COM
DIO1
DIO2
MAIO
ILK
PC1:
APC
DIO
MAIO
COM
TEMP
PC2:
APC
DIO
MAIO
COM
TEMP
1996 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Unity IIe 85 DPATC는 반도체 장치 제조 및 기타 관련 산업에 사용하도록 설계된 플라즈마 강화 반응 이온 에처 (PE-RIE) 입니다. 이 장비는 웨이퍼 (wafer) 또는 기타 작업 조각의 에칭을 위한 최대 성능, 정확성 및 반복 성을 제공하도록 설계되었습니다. Unity IIe 85에는 정밀 고진공 챔버, 고용량 처리량 전송 및 고급 제어 시스템이 있습니다. 챔버는 코팅 저항성이 있으며 장기적인 신뢰성과 매우 정밀한 에칭을 위해 설계되었습니다. Unity IIe 85 PE-RIE는 최대 온도 450 ° C의 대용량 3 축 전송 장치를 갖추고 있습니다. 이 수평 운송 기계는 정확한 웨이퍼 (wafer) 운송 및 위치를 제공하여 웨이퍼 전체에 균일하고, 일정하며, 반복 가능한 에치 속도를 유지합니다. 또한 챔버 (chamber) 는 정밀한 압력 제어를 제공하여 프로세스 매개변수가 분산없이 유지되도록 합니다. 에치 레이트 (etch rate) 를 실시간으로 조정하여 에칭 프로세스의 매개변수를 정확하게 제어할 수 있습니다. 에칭 프로세스는 Unity IIe 85로 자동화되어 프로세스를 단순화하여 반복 가능하고 안정적인 결과를 보장합니다. 이 도구에는 웨이퍼가 로드되기 전에 각 etch 프로세스에 대한 데이터를 입력, 최적화할 수 있는 오프라인 매개변수 셋업 (Offline Parameters Setup) 기능이 있습니다. 이어서, 이칭 공정은 실내에서, 원격뿐만 아니라 실내에서 모두 모니터링 할 수있는 실시간 모니터링 자산 (asset-time monitoring asset) 으로 모니터링 및 조정된다. Unity IIe 85는 고급 제어 기술을 사용하여 높은 정확성과 반복 성을 유지합니다. 이 모델은 RF 생성기를 사용하여 플라즈마를 생성 한 다음 압력, 온도, 가스 흐름, 전류 등 다양한 매개변수에 의해 조절됩니다. 장비는 또한 IIe 컨트롤러를 사용하여 RF 발전기의 인덕턴스를 조정합니다. Unity IIe 85는 반도체 제작 및 관련 산업에 사용하도록 설계된 고급, 신뢰할 수있는 PE-RIE 시스템입니다. 최고 수준의 성능, 정확성, 반복성 (repeatability) 을 제공하며 실시간 모니터링 및 제어를 통해 자동화된 에치 (etch) 프로세스를 통해 사용자는 최고 수준의 정밀도 및 운영 처리량을 달성할 수 있습니다.
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