판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD #293775061

ID: 293775061
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2000
Oxide etcher, 8" YASKAWA Robot Process: Oxide CIM: GEM Handler Chiller (2) LPT (4) Dry pumps AC and RF Rack 2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD는 반도체 제조 응용 분야를 위해 고정밀 처리 기능을 제공하도록 설계된 고급 etcher/asher 장비입니다. 이 시스템은 TEL Unity 시리즈 에칭 장비의 일부로, 반도체 산업에서 패턴 및 에칭 프로세스를 위해 널리 사용됩니다. TEL UNITY 2E 85 DD에는 최첨단 기술이 탑재되어 있으며, 정밀한 재료 제거 및 플라즈마 처리를 위한 다용도, 신뢰성 있는 도구입니다. 이 장치는 깊은 실리콘 에칭 공정을 위해 특별히 설계되었습니다. 여기서 높은 종횡비 (aspect ratio) 구조는 높은 선택성과 균일성으로 에칭해야합니다. TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD의 주요 기능 중 하나는 이중 소스 구성으로, 두 개의 다른 가스로 동시에 에칭할 수 있습니다. 이를 통해 기계는 다양한 프로세스 기능을 달성하고 다양한 재료 (material) 및 프로세스 요구사항에 대한 에칭 (etching) 성능을 최적화할 수 있습니다. 이 도구는 또한 고출력 RF 발전기를 갖추고 있으며, 이는 웨이퍼 전체에 걸쳐 효율적인 플라즈마 생성 및 균일 한 처리를 보장합니다. UNITY 2E 85 DD에는 빠른 웨이퍼 로드 및 언로드를 위한 로드 잠금 챔버 (load-lock chamber) 가 장착되어 있어 프로세스 다운타임을 최소화하고 전반적인 생산성을 향상시킵니다. 이 자산은 또한 로봇 암 (robot arm) 기술을 갖춘 고급 웨이퍼 처리 모델 (advanced wafer handling model) 을 갖추고 있습니다. 식각 기능 측면에서 TEL/TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD는 다양한 재료 유형 및 공정 요구 사항을 수용하는 다양한 프로세스 가스 및 레시피를 제공합니다. 이 장비는 불소 기반, 염소 기반, 산소 기반 화학 물질을 포함한 다양한 에칭 화학 물질을 처리 할 수 있으며, 다양한 물질에 대한 높은 선택성과 에치 속도를 달성 할 수 있습니다. TEL UNITY 2E 85 DD에는 엔드포인트 감지 기술, 실시간 모니터링 기능 등 고급 프로세스 제어 기능도 탑재되어 있습니다. 이러한 기능을 통해 시스템은 정확한 프로세스 제어를 달성하고, 균일성을 향상시키며, 웨이퍼 (wafer) 에서 웨이퍼 (wafer) 로의 일관된 처리 결과를 얻을 수 있습니다. 또한, TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD는 사용자 친화적 인 인터페이스와 직관적 인 소프트웨어 제어 장치 (Software Control Unit) 로 설계되어 기계의 작동과 유지 보수가 용이합니다. 이 도구에는 안전하고 친환경적인 운영을 보장하기 위해 고급 안전 기능 (Advanced Safety Features) 과 가스 절단 시스템 (Gas Abatement System) 도 포함되어 있습니다 전반적으로 UNITY 2E 85 DD는 다양한 반도체 제조 어플리케이션에 대한 고급 처리 기능, 안정적인 성능, 다양한 기능을 제공하는 고성능 etcher/asher 자산입니다. 이 모델은 혁신적인 디자인과 최첨단 (state-of-the-art) 기능으로 반도체 업계의 까다로운 에칭 프로세스에 적합합니다.
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